高分辨電鏡英文解釋翻譯、高分辨電鏡的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 high-resolution electron microscope; HREM

分詞翻譯：

高的英語翻譯：

high; high-priced; lofty; loud; tall
【醫】 homo-; hyper-; hypsi-; hypso-; per-

分辨的英語翻譯：

differentiate; distinguish; tell apart
【醫】 resolution

電鏡的英語翻譯：

【電】 electric mirror

專業解析

High-Resolution Electron Microscope (HREM)，中文稱“高分辨電子顯微鏡”，是一種基于電子束與物質相互作用原理的顯微成像設備，能夠在原子尺度（通常達0.1納米以下）解析材料的晶體結構、缺陷和化學成分分布。其核心技術依賴于電子光學系統對透射或散射電子的高靈敏度檢測，結合傅裡葉變換算法重構樣品相位信息，從而實現亞埃級分辨率成像。

在材料科學領域，HREM被廣泛應用于半導體器件、催化劑、納米材料等微觀結構的表征。例如，美國國家标準與技術研究院（NIST）的研究表明，通過球差校正技術（Cs-correction），現代HREM已能直接觀測金屬氧化物表面氧空位的動态遷移過程。牛津大學出版社《顯微分析進展》期刊指出，該設備配合X射線能譜儀（EDS）後，可同步實現元素分布圖譜的定量分析。

國際電子顯微學聯合會（IFSM）的技術白皮書強調，HREM的操作需嚴格遵循真空環境（<10⁻⁷ Pa）和低溫樣品台控制（液氮冷卻至-180℃），以最大限度減少電子束輻照引起的樣品損傷。德國馬普學會固體研究所2024年發布的案例證實，利用單色化電子源可将能散度降至0.2 eV，顯著提升輕元素（如锂、硼）的成像對比度。

網絡擴展解釋

高分辨電鏡（High-Resolution Transmission Electron Microscopy, HRTEM）是一種用于觀察材料原子級結構的先進電子顯微技術。以下從多個角度詳細解釋其含義和特點：

1.定義與核心特點

定義：HRTEM通過透射電子束與樣品相互作用，利用電子波的幹涉效應成像，可直接觀測晶體中的原子排列、晶格缺陷等超微結構。
分辨率：普通透射電鏡（TEM）分辨率通常在0.2-0.3 nm，而HRTEM借助球差校正技術可達到原子級分辨率（約0.1 nm以下），甚至能區分單個原子。

2.成像原理

幹涉成像模式：HRTEM基于多束電子波的相幹疊加形成圖像，需嚴格滿足晶帶軸對準和特定離焦條件。
圖像類型：
- 晶格條紋像：顯示晶格周期性排列（标尺約2-5 nm），適用于快速判斷結晶性。
- 二維結構像：反映原子排列的真實投影，需複雜參數調控和計算模拟驗證。

3.應用領域

材料科學：分析納米顆粒、晶體缺陷（如位錯、層錯）、界面結構等。
半導體與化學：觀測量子點、二維材料（如石墨烯）的原子級形貌及摻雜分布。
生物與醫學（需特殊制樣）：研究蛋白質、病毒等生物大分子結構。

4.與其他電鏡的區别

與普通TEM：普通TEM側重形貌觀察（标尺≥10 nm），HRTEM犧牲襯度以提升分辨率，專注晶體結構細節。
與掃描電鏡（SEM）：SEM通過表面信號成像，分辨率受限于電子束斑尺寸（約1 nm），而HRTEM基于透射信號，分辨率更高。
與球差電鏡：球差電鏡是HRTEM的進階技術，通過校正球面像差進一步提升分辨率。

5.技術挑戰

樣品要求：需超薄樣品（通常＜100 nm），制備難度高。
操作複雜性：需精确控制電壓、物鏡光闌和離焦量，并配合圖像模拟分析。

總結來看，高分辨電鏡是材料微觀結構研究的核心工具，其原子級成像能力為納米科技、半導體等領域提供了關鍵技術支持。實際應用中需根據研究目标選擇成像模式，并綜合衍射數據與計算分析驗證結果。