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隧道三极管英文解释翻译、隧道三极管的近义词、反义词、例句

英语翻译:

【计】 tunnel triode

分词翻译:

隧道的英语翻译:

tube; tunnel
【医】 cuniculus; histosiphon; tunnel

三极管的英语翻译:

dynatron
【化】 triode

专业解析

隧道三极管(Tunnel Transistor),是一种利用量子隧穿效应(Quantum Tunneling Effect)工作的半导体器件,属于新型低功耗晶体管范畴。其核心工作原理与传统场效应晶体管(FET)不同,不依赖热电子发射跨越势垒,而是允许电子以概率波形式穿越经典力学禁区的薄势垒层,实现电流导通。以下是其关键特征的详细解释:

  1. 工作原理与核心机制

    • 量子隧穿主导: 在传统晶体管中,电流导通需要源极(Source)的电子获得足够能量(通过栅极电压调控)越过沟道势垒到达漏极(Drain)。隧道三极管则利用极薄的势垒层(通常为纳米尺度),在较低的源漏电压(VDS)和特定的栅极电压(VGS)下,电子无需获得高能量即可凭借量子隧穿效应直接穿透势垒,形成隧穿电流。这种导通机制显著降低了开启电压和功耗。
    • 陡峭的亚阈摆幅(Subthreshold Swing, SS): 这是隧道三极管最突出的优势。亚阈摆幅(SS)衡量器件在关闭态(Off-state)向开启态(On-state)转换时,栅极电压每变化一个数量级(十倍)所引起的漏极电流变化量。传统MOSFET的SS存在一个理论极限(室温下约60 mV/decade)。隧道三极管通过带带隧穿(Band-to-Band Tunneling, BTBT)机制,可以在室温下实现低于60 mV/decade的SS值(理论上可低至<20 mV/decade),这意味着它可以用更小的栅压变化实现更大的电流开关比,从而大幅降低工作电压(可低至0.5V以下)和动态功耗。
  2. 典型结构与材料

    • 异质结结构: 常见的隧道三极管结构是基于异质结的,例如使用III-V族化合物半导体(如InGaAs/InAs/InGaAs)形成的p-i-n或n-i-p结构。其中,i区(本征区)或p-n结界面处形成非常陡峭且狭窄的能带弯曲区域,是发生带带隧穿的关键位置。
    • 栅极调控: 栅极电压(VGS)的作用是动态调制源区和沟道区(或p区和n区)之间的能带对准程度。当栅压使两边的能带在空间上对齐且隧穿距离足够小时,隧穿概率最大,电流达到峰值(称为峰值电流点)。继续增大或减小栅压会使能带错开,隧穿概率急剧下降,电流迅速减小,形成独特的负微分电阻(NDR)特性或陡峭的开关特性。
  3. 主要优势与应用

    • 超低功耗: 得益于低工作电压和陡峭的亚阈摆幅,隧道三极管在待机(静态)功耗和开关(动态)功耗方面都具有巨大潜力,被认为是解决集成电路功耗瓶颈(特别是移动设备和物联网设备)的关键技术之一。
    • 高速潜力: 隧穿过程本身非常快(飞秒量级),理论上支持高速开关。然而,实际速度还受限于寄生电容、载流子输运等因素。
    • 应用场景: 主要瞄准需要极低功耗的领域,如可穿戴设备、植入式医疗电子、大规模物联网传感器网络、以及未来超大规模集成电路(ULSI)中的低功耗逻辑和内存单元。

权威参考来源:

网络扩展解释

关于“隧道三极管”这一术语,目前公开的搜索结果中并未直接提及该概念。但结合相关半导体器件知识及搜索结果中的“隧道二极管”信息(参考),可以推测以下可能解释:


1.可能的混淆或术语差异


2.常规三极管与隧道效应的区别


3.建议


如需补充其他半导体器件原理,可参考搜索结果中的三极管基础知识或场效应管相关内容。

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