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隧道三極管英文解釋翻譯、隧道三極管的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯:

【計】 tunnel triode

分詞翻譯:

隧道的英語翻譯:

tube; tunnel
【醫】 cuniculus; histosiphon; tunnel

三極管的英語翻譯:

dynatron
【化】 triode

專業解析

隧道三極管(Tunnel Transistor),是一種利用量子隧穿效應(Quantum Tunneling Effect)工作的半導體器件,屬于新型低功耗晶體管範疇。其核心工作原理與傳統場效應晶體管(FET)不同,不依賴熱電子發射跨越勢壘,而是允許電子以概率波形式穿越經典力學禁區的薄勢壘層,實現電流導通。以下是其關鍵特征的詳細解釋:

  1. 工作原理與核心機制

    • 量子隧穿主導: 在傳統晶體管中,電流導通需要源極(Source)的電子獲得足夠能量(通過栅極電壓調控)越過溝道勢壘到達漏極(Drain)。隧道三極管則利用極薄的勢壘層(通常為納米尺度),在較低的源漏電壓(VDS)和特定的栅極電壓(VGS)下,電子無需獲得高能量即可憑借量子隧穿效應直接穿透勢壘,形成隧穿電流。這種導通機制顯著降低了開啟電壓和功耗。
    • 陡峭的亞阈擺幅(Subthreshold Swing, SS): 這是隧道三極管最突出的優勢。亞阈擺幅(SS)衡量器件在關閉态(Off-state)向開啟态(On-state)轉換時,栅極電壓每變化一個數量級(十倍)所引起的漏極電流變化量。傳統MOSFET的SS存在一個理論極限(室溫下約60 mV/decade)。隧道三極管通過帶帶隧穿(Band-to-Band Tunneling, BTBT)機制,可以在室溫下實現低于60 mV/decade的SS值(理論上可低至<20 mV/decade),這意味着它可以用更小的栅壓變化實現更大的電流開關比,從而大幅降低工作電壓(可低至0.5V以下)和動态功耗。
  2. 典型結構與材料

    • 異質結結構: 常見的隧道三極管結構是基于異質結的,例如使用III-V族化合物半導體(如InGaAs/InAs/InGaAs)形成的p-i-n或n-i-p結構。其中,i區(本征區)或p-n結界面處形成非常陡峭且狹窄的能帶彎曲區域,是發生帶帶隧穿的關鍵位置。
    • 栅極調控: 栅極電壓(VGS)的作用是動态調制源區和溝道區(或p區和n區)之間的能帶對準程度。當栅壓使兩邊的能帶在空間上對齊且隧穿距離足夠小時,隧穿概率最大,電流達到峰值(稱為峰值電流點)。繼續增大或減小栅壓會使能帶錯開,隧穿概率急劇下降,電流迅速減小,形成獨特的負微分電阻(NDR)特性或陡峭的開關特性。
  3. 主要優勢與應用

    • 超低功耗: 得益于低工作電壓和陡峭的亞阈擺幅,隧道三極管在待機(靜态)功耗和開關(動态)功耗方面都具有巨大潛力,被認為是解決集成電路功耗瓶頸(特别是移動設備和物聯網設備)的關鍵技術之一。
    • 高速潛力: 隧穿過程本身非常快(飛秒量級),理論上支持高速開關。然而,實際速度還受限于寄生電容、載流子輸運等因素。
    • 應用場景: 主要瞄準需要極低功耗的領域,如可穿戴設備、植入式醫療電子、大規模物聯網傳感器網絡、以及未來超大規模集成電路(ULSI)中的低功耗邏輯和内存單元。

權威參考來源:

網絡擴展解釋

關于“隧道三極管”這一術語,目前公開的搜索結果中并未直接提及該概念。但結合相關半導體器件知識及搜索結果中的“隧道二極管”信息(參考),可以推測以下可能解釋:


1.可能的混淆或術語差異


2.常規三極管與隧道效應的區别


3.建議


如需補充其他半導體器件原理,可參考搜索結果中的三極管基礎知識或場效應管相關内容。

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