
【計】 thin-film technology
film; membrane; pellicle
【計】 thin membrane; thin-film
【醫】 film
art; science; skill; technique; technology
【計】 switching technique; techno
【醫】 technic; technique
【經】 technique; technology
薄膜技術(Thin Film Technology)指在基體材料表面沉積或生長一層厚度通常在納米至微米尺度(幾納米到幾微米)的薄膜材料的科學與工程領域。其核心在于通過物理或化學方法,在原子或分子層面上精确控制材料的沉積過程,形成具有特定功能的結構(如電學、光學、機械或化學特性)。英文術語為Thin Film Technology。
薄膜的厚度範圍通常為1 nm 至 100 μm,其性質顯著區别于塊體材料,受表面效應和量子尺寸效應影響(如導電性、透光率變化)。
主要分為物理氣相沉積(PVD,如濺射、蒸發)和化學氣相沉積(CVD,包括等離子體增強CVD),通過真空環境控制原子/分子在基片上的有序附着。
薄膜的設計以滿足特定應用需求為目标,例如:
薄膜晶體管(TFT)、集成電路互連線、存儲器件(如DRAM電容介質層)依賴納米級薄膜堆疊實現功能集成。
太陽能電池(矽基薄膜、鈣钛礦薄膜)、LED外延層、光纖鍍膜等通過薄膜調控光吸收與發射效率。
涵蓋耐磨塗層(刀具TiN鍍層)、防腐塗層(船舶Al₂O₃)、生物醫學塗層(人工關節DLC類金剛石膜)等。
《薄膜科學與技術手冊》(Handbook of Thin Film Technology)定義其為“通過氣相沉積在基底上形成二維材料系統的技術,其性質受界面效應主導”。
國際半導體技術路線圖(ITRS)強調薄膜技術是“延續摩爾定律的核心,推動器件微縮與三維集成”。
美國真空學會(AVS)制定的薄膜沉積标準(如ASTM F1241)規範了工藝參數與膜層質量檢測方法。
來源說明
經典教材 Handbook of Thin Film Technology(L. I. Maissel, R. Glang 主編)
期刊 Thin Solid Films(Elsevier 出版)
國際半導體技術路線圖(ITRS Reports)
光學工程專著 Thin-Film Optical Filters(H. Angus Macleod)
美國真空學會(AVS)技術标準庫
薄膜技術是指通過物理或化學方法在物體表面制備超薄材料層的技術總稱,其核心在于對材料表面進行改性或功能化處理,以實現特定的物理、化學或機械性能。以下從定義、特點、制備及應用進行分述:
定義
薄膜技術涵蓋薄膜的制備、測試及相關工藝,其關鍵特征是材料厚度在納米至微米級别(通常為幾納米到幾微米),且表面與界面特性顯著影響材料性能。例如,半導體制造中通過氣相沉積形成電路層,使電子設備更輕薄。
核心特點
薄膜技術主要依賴以下工藝:
薄膜技術已滲透多個高科技領域:
隨着納米技術和材料科學進步,薄膜技術正朝着超薄化(如原子層沉積技術)和多功能集成(如智能響應薄膜)方向發展,未來将在柔性電子、可穿戴設備和綠色能源中發揮更大作用。
如需進一步了解具體制備工藝或行業案例,可查看來源網頁(如中的技術分類或中的應用實例)。
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