
【计】 thin-film technology
film; membrane; pellicle
【计】 thin membrane; thin-film
【医】 film
art; science; skill; technique; technology
【计】 switching technique; techno
【医】 technic; technique
【经】 technique; technology
薄膜技术(Thin Film Technology)指在基体材料表面沉积或生长一层厚度通常在纳米至微米尺度(几纳米到几微米)的薄膜材料的科学与工程领域。其核心在于通过物理或化学方法,在原子或分子层面上精确控制材料的沉积过程,形成具有特定功能的结构(如电学、光学、机械或化学特性)。英文术语为Thin Film Technology。
薄膜的厚度范围通常为1 nm 至 100 μm,其性质显著区别于块体材料,受表面效应和量子尺寸效应影响(如导电性、透光率变化)。
主要分为物理气相沉积(PVD,如溅射、蒸发)和化学气相沉积(CVD,包括等离子体增强CVD),通过真空环境控制原子/分子在基片上的有序附着。
薄膜的设计以满足特定应用需求为目标,例如:
薄膜晶体管(TFT)、集成电路互连线、存储器件(如DRAM电容介质层)依赖纳米级薄膜堆叠实现功能集成。
太阳能电池(硅基薄膜、钙钛矿薄膜)、LED外延层、光纤镀膜等通过薄膜调控光吸收与发射效率。
涵盖耐磨涂层(刀具TiN镀层)、防腐涂层(船舶Al₂O₃)、生物医学涂层(人工关节DLC类金刚石膜)等。
《薄膜科学与技术手册》(Handbook of Thin Film Technology)定义其为“通过气相沉积在基底上形成二维材料系统的技术,其性质受界面效应主导”。
国际半导体技术路线图(ITRS)强调薄膜技术是“延续摩尔定律的核心,推动器件微缩与三维集成”。
美国真空学会(AVS)制定的薄膜沉积标准(如ASTM F1241)规范了工艺参数与膜层质量检测方法。
来源说明
经典教材 Handbook of Thin Film Technology(L. I. Maissel, R. Glang 主编)
期刊 Thin Solid Films(Elsevier 出版)
国际半导体技术路线图(ITRS Reports)
光学工程专著 Thin-Film Optical Filters(H. Angus Macleod)
美国真空学会(AVS)技术标准库
薄膜技术是指通过物理或化学方法在物体表面制备超薄材料层的技术总称,其核心在于对材料表面进行改性或功能化处理,以实现特定的物理、化学或机械性能。以下从定义、特点、制备及应用进行分述:
定义
薄膜技术涵盖薄膜的制备、测试及相关工艺,其关键特征是材料厚度在纳米至微米级别(通常为几纳米到几微米),且表面与界面特性显著影响材料性能。例如,半导体制造中通过气相沉积形成电路层,使电子设备更轻薄。
核心特点
薄膜技术主要依赖以下工艺:
薄膜技术已渗透多个高科技领域:
随着纳米技术和材料科学进步,薄膜技术正朝着超薄化(如原子层沉积技术)和多功能集成(如智能响应薄膜)方向发展,未来将在柔性电子、可穿戴设备和绿色能源中发挥更大作用。
如需进一步了解具体制备工艺或行业案例,可查看来源网页(如中的技术分类或中的应用实例)。
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