
【電】 transistor barrier
transistor
【計】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
【醫】 barrier
晶體管障壁(transistor barrier)是半導體器件中載流子輸運的關鍵控制結構,特指PN結或金屬-半導體界面處形成的電勢能壘。該術語在漢英詞典中對應"barrier layer"或"potential barrier",其核心功能體現在以下三方面:
載流子調控機制
晶體管的基極-發射極結通過摻雜濃度差異形成約0.7V(矽材料)的固有勢壘,該數值符合肖克利二極管方程$V_D = frac{kT}{q} ln(frac{N_A N_D}{n_i})$,其中$N_A$/N_D分别代表受主/施主濃度(來源:《半導體器件物理》S.M. Sze)。此障壁高度直接決定器件的阈值電壓特性。
能帶工程應用
現代異質結雙極晶體管(HBT)采用AlGaAs/GaAs等材料體系,通過禁帶寬度差異産生附加勢壘。美國電氣電子工程師學會(IEEE)标準JSSC-2020記錄,這種設計使截止頻率提升至300GHz量級,證實能帶工程對障壁調控的有效性(來源:IEEE Xplore數據庫)。
器件可靠性關聯
日本電子情報技術産業協會(JEITA)白皮書指出,勢壘區電場強度超過3×10 V/cm時将引發雪崩擊穿,該數據為功率晶體管安全工作區設計提供理論依據(來源:JEITA年度技術報告)。這種物理現象解釋了大電流工況下障壁結構的失效機理。
“晶體管障壁”是一個專業電子學術語,結合“晶體管”和“障壁”的物理特性,其含義可拆解為以下兩部分:
晶體管是一種半導體器件,用于放大或切換電信號,是現代電子電路的核心元件。其基本結構包含三個區域(發射極、基極、集電極)或場效應管的源極、栅極、漏極。
在電子學中,“障壁”指結構中起隔離或阻擋作用的物理層或勢壘,常見類型包括:
晶體管障壁指晶體管内部用于隔離不同功能區、控制載流子流動或防止幹擾的物理結構。例如:
需注意,該術語的具體定義可能因技術領域(如微電子、顯示技術)而有所不同,建議結合具體文獻或手冊進一步确認。
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