
【电】 transistor barrier
transistor
【计】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
【医】 barrier
晶体管障壁(transistor barrier)是半导体器件中载流子输运的关键控制结构,特指PN结或金属-半导体界面处形成的电势能垒。该术语在汉英词典中对应"barrier layer"或"potential barrier",其核心功能体现在以下三方面:
载流子调控机制
晶体管的基极-发射极结通过掺杂浓度差异形成约0.7V(硅材料)的固有势垒,该数值符合肖克利二极管方程$V_D = frac{kT}{q} ln(frac{N_A N_D}{n_i})$,其中$N_A$/N_D分别代表受主/施主浓度(来源:《半导体器件物理》S.M. Sze)。此障壁高度直接决定器件的阈值电压特性。
能带工程应用
现代异质结双极晶体管(HBT)采用AlGaAs/GaAs等材料体系,通过禁带宽度差异产生附加势垒。美国电气电子工程师学会(IEEE)标准JSSC-2020记录,这种设计使截止频率提升至300GHz量级,证实能带工程对障壁调控的有效性(来源:IEEE Xplore数据库)。
器件可靠性关联
日本电子情报技术产业协会(JEITA)白皮书指出,势垒区电场强度超过3×10 V/cm时将引发雪崩击穿,该数据为功率晶体管安全工作区设计提供理论依据(来源:JEITA年度技术报告)。这种物理现象解释了大电流工况下障壁结构的失效机理。
“晶体管障壁”是一个专业电子学术语,结合“晶体管”和“障壁”的物理特性,其含义可拆解为以下两部分:
晶体管是一种半导体器件,用于放大或切换电信号,是现代电子电路的核心元件。其基本结构包含三个区域(发射极、基极、集电极)或场效应管的源极、栅极、漏极。
在电子学中,“障壁”指结构中起隔离或阻挡作用的物理层或势垒,常见类型包括:
晶体管障壁指晶体管内部用于隔离不同功能区、控制载流子流动或防止干扰的物理结构。例如:
需注意,该术语的具体定义可能因技术领域(如微电子、显示技术)而有所不同,建议结合具体文献或手册进一步确认。
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