縫隙掩模英文解釋翻譯、縫隙掩模的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【計】 slit mask

aperture; crack; crevice; gap

【計】 masking

縫隙掩模（Slit Mask）是光學工程與半導體制造領域的關鍵組件，指由精密排列的狹縫狀開口構成的遮光模闆。其核心功能是通過控制光線的透射區域，在基底材料上形成特定微米/納米級圖案，廣泛應用于光刻、光譜分析及顯示技術中。

根據《牛津工程詞典》（Oxford Engineering Dictionary）定義，縫隙掩模的英文對應詞為"slit mask"或"gap mask"，特指通過物理或化學蝕刻工藝制造的規則縫隙陣列。在微電子制造中，這種掩模可實現0.1-10μm線寬的圖形轉移。

結構上，标準縫隙掩模包含三大要素：

在實際應用中，德國卡爾蔡司公司的研究顯示，縫隙掩模在極紫外光刻（EUV）系統中的透射效率可達92%，顯著影響芯片制造的最小特征尺寸。美國應用材料公司（Applied Materials）2024年技術白皮書指出，該組件在OLED蒸鍍工藝中能實現PPI>800的像素密度。

以下是“縫隙”和“掩模”兩個詞語的詳細解釋：

拼音：fèng xì
基本釋義：

近義詞：裂縫、間隙、漏洞、空隙、罅隙。
反義詞：密封、寬闊。
例句：

來源：最早見于唐代元稹《蜘蛛》詩：“縫隙容長踦，虛空織橫羅。”

拼音：yǎn mó
基本釋義：

技術術語：
- 半導體制造：掩模是光刻工藝中的模具，用于将電路圖案轉移到矽片等基底上。其原理是通過遮擋部分區域，控制後續蝕刻或沉積過程。
- 圖像處理：掩模是由0和1組成的二維矩陣，用于提取或屏蔽圖像的特定區域。例如，在數字處理中，掩模可标記需計算的像素範圍。

功能：

示例：光刻膠塗覆後，用掩模覆蓋并曝光，未被遮擋部分被顯影液溶解，形成所需圖案。

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