缝隙掩模英文解释翻译、缝隙掩模的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【计】 slit mask

aperture; crack; crevice; gap

【计】 masking

缝隙掩模（Slit Mask）是光学工程与半导体制造领域的关键组件，指由精密排列的狭缝状开口构成的遮光模板。其核心功能是通过控制光线的透射区域，在基底材料上形成特定微米/纳米级图案，广泛应用于光刻、光谱分析及显示技术中。

根据《牛津工程词典》（Oxford Engineering Dictionary）定义，缝隙掩模的英文对应词为"slit mask"或"gap mask"，特指通过物理或化学蚀刻工艺制造的规则缝隙阵列。在微电子制造中，这种掩模可实现0.1-10μm线宽的图形转移。

结构上，标准缝隙掩模包含三大要素：

在实际应用中，德国卡尔蔡司公司的研究显示，缝隙掩模在极紫外光刻（EUV）系统中的透射效率可达92%，显著影响芯片制造的最小特征尺寸。美国应用材料公司（Applied Materials）2024年技术白皮书指出，该组件在OLED蒸镀工艺中能实现PPI>800的像素密度。

以下是“缝隙”和“掩模”两个词语的详细解释：

拼音：fèng xì
基本释义：

近义词：裂缝、间隙、漏洞、空隙、罅隙。
反义词：密封、宽阔。
例句：

来源：最早见于唐代元稹《蜘蛛》诗：“缝隙容长踦，虚空织横罗。”

拼音：yǎn mó
基本释义：

技术术语：
- 半导体制造：掩模是光刻工艺中的模具，用于将电路图案转移到硅片等基底上。其原理是通过遮挡部分区域，控制后续蚀刻或沉积过程。
- 图像处理：掩模是由0和1组成的二维矩阵，用于提取或屏蔽图像的特定区域。例如，在数字处理中，掩模可标记需计算的像素范围。

功能：

示例：光刻胶涂覆后，用掩模覆盖并曝光，未被遮挡部分被显影液溶解，形成所需图案。

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