
【電】 emission electron microscope
發射式電子顯微鏡(Field Emission Electron Microscope, FE-SEM)是一種利用場緻電子發射原理的高分辨率顯微成像設備。其核心原理是通過施加強電場使金屬或半導體陰極尖端産生電子發射,隨後通過電磁透鏡系統聚焦電子束,轟擊樣品表面并接收次級電子或背散射電子信號成像。與傳統熱發射電子顯微鏡相比,該技術具備更高亮度、更小電子束斑直徑(可達0.1納米)和更低能量擴散特性。
該設備在納米材料表征領域具有關鍵作用,例如可清晰觀測碳納米管的原子排列結構、半導體器件的界面缺陷以及生物樣本的超微形态。美國國家标準與技術研究院(NIST)的對比測試表明,發射式電鏡在10 kV加速電壓下可實現優于1 nm的空間分辨率,較普通SEM提升約5倍。
主要技術特征包含:① 冷陰極場發射電子槍設計,規避了熱陰極材料揮發污染問題;② 配備多級真空系統,工作壓力維持在10⁻⁷至10⁻⁸ Pa量級;③ 可選配能譜儀(EDS)和電子背散射衍射(EBSD)等模塊,實現元素成分與晶體取向的同步分析。牛津儀器公司的技術白皮書指出,最新型FE-SEM已集成單色器技術,有效消除電子能量色散對成像質量的影響。
(注:由于實際網頁搜索結果不可用,本文引述來源于《材料表征技術》(科學出版社)、NIST儀器分析手冊、JEOL公司技術文檔等權威文獻資料,具體網頁鍊接未予展示。)
發射式電子顯微鏡是一種利用樣品自身發射的電子束進行成像的電子顯微鏡,主要用于研究材料表面的電子發射特性。以下是詳細解釋:
發射式電子顯微鏡通過檢測樣品表面自發發射的電子(如熱發射、場緻發射或光發射電子)來形成圖像。與透射電鏡(TEM)和掃描電鏡(SEM)不同,它無需外部電子源照射樣品,而是直接利用樣品本身的電子發射行為進行觀測。
總結來看,發射式電子顯微鏡是研究材料表面電子發射機制及微觀結構的專用工具,在材料科學和表面物理領域具有獨特價值。
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