
【化】 electron probe X-ray microanalysis; EPXMA
【化】 electron probe
radial; ray
【醫】 radiation; ray
microanalysis
【化】 microanalysis
【醫】 microanalysis
電子探針X射線微量分析(Electron Probe X-ray Microanalysis,EPMA)是一種基于電子束與物質相互作用原理的微觀成分分析技術。該技術通過聚焦電子束轟擊樣品表面,激發樣品原子内層電子躍遷并釋放特征X射線,利用波長色散譜儀(WDS)或能量色散譜儀(EDS)檢測特征X射線的波長或能量,進而确定樣品中元素的種類及其含量。
根據《分析化學術語國家标準》(GB/T 14666-2023),該技術具有0.1-1 μm的空間分辨率和百萬分之一的檢測靈敏度,可實現對固體樣品微區成分的定性與定量分析。其核心公式為ZAF修正公式: $$ varphi(rho z) = frac{I}{I_0} = kZAF $$ 式中$varphi(rho z)$表示X射線強度比,$Z$為原子序數修正因子,$A$為吸收修正因子,$F$為熒光修正因子。
在材料科學領域,該技術被廣泛應用于金屬夾雜物分析、礦物相鑒定及半導體材料表征。美國材料試驗協會(ASTM E1508-22)明确指出,EPMA的定量分析需配合标準樣品進行校準,采用Cliff-Lorimer比值法可提升輕元素(如B、C、N)的檢測精度。英國皇家顯微學會(Royal Microscopical Society)的研究報告顯示,配備場發射電子槍的現代EPMA系統可實現納米尺度的成分映射分析。
電子探針X射線微量分析(簡稱EPMA)是一種結合顯微形貌觀察與化學成分分析的微區檢測技術,其核心原理是利用聚焦電子束激發樣品表面元素特征X射線,通過分析射線波長(或能量)和強度實現定性與定量分析。以下是詳細解釋:
特征X射線産生
當高能電子束轟擊樣品表面時,原子内層電子被擊出形成空位,外層電子躍遷填補空位并釋放能量,産生特征X射線。
公式表達:
$$ E = h
u = frac{hc}{lambda} $$
其中,$E$為X射線能量,$lambda$為波長,$h$為普朗克常數,$c$為光速。
元素識别與定量
如需進一步了解具體實驗流程或技術細節,、和中的專業文獻。
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