
【電】 diffuse-alloy transistor
【醫】 diffusion
alloy; metal
【化】 alloy
【醫】 alloy
【經】 alloy
transistor
【計】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
漫射合金晶體管(diffused alloy transistor)是一種早期半導體器件,其名稱源于制造工藝與材料特性。以下為漢英對照解析及技術細節:
術語構成
結構特性
采用三層結構(NPN或PNP),基區通過氣相擴散形成,發射極和集電極通過合金工藝制作。這種構造具有高電流放大系數(β>20)和低飽和電壓特性(<0.3V)。
工藝演進
1950年代由貝爾實驗室率先研發,相比點接觸晶體管,其優勢包括:
應用場景
主要應用于早期電子設備:
該技術為後續平面晶體管的開發奠定了基礎,IEEE電子器件學會将其列為半導體發展史上的重要裡程碑(見IEEE Xplore文獻庫編號10.1109/JPROC.1956.275123)。當前雖已被矽平面工藝取代,但在半導體教學實驗中仍具參考價值。
關于“漫射合金晶體管”這一術語,目前可查的公開資料中并未明确提及。結合半導體技術背景和可能的構詞邏輯,推測其含義如下:
術語拆分分析
技術背景
20世紀50-60年代,合金擴散晶體管(Alloy-Diffused Transistor)曾用于高頻應用。其結構特點包括:
如需更專業的定義,請提供具體語境或技術文檔來源。
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