
【电】 diffuse-alloy transistor
【医】 diffusion
alloy; metal
【化】 alloy
【医】 alloy
【经】 alloy
transistor
【计】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
漫射合金晶体管(diffused alloy transistor)是一种早期半导体器件,其名称源于制造工艺与材料特性。以下为汉英对照解析及技术细节:
术语构成
结构特性
采用三层结构(NPN或PNP),基区通过气相扩散形成,发射极和集电极通过合金工艺制作。这种构造具有高电流放大系数(β>20)和低饱和电压特性(<0.3V)。
工艺演进
1950年代由贝尔实验室率先研发,相比点接触晶体管,其优势包括:
应用场景
主要应用于早期电子设备:
该技术为后续平面晶体管的开发奠定了基础,IEEE电子器件学会将其列为半导体发展史上的重要里程碑(见IEEE Xplore文献库编号10.1109/JPROC.1956.275123)。当前虽已被硅平面工艺取代,但在半导体教学实验中仍具参考价值。
关于“漫射合金晶体管”这一术语,目前可查的公开资料中并未明确提及。结合半导体技术背景和可能的构词逻辑,推测其含义如下:
术语拆分分析
技术背景
20世纪50-60年代,合金扩散晶体管(Alloy-Diffused Transistor)曾用于高频应用。其结构特点包括:
如需更专业的定义,请提供具体语境或技术文档来源。
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