
【計】 copper foil
銅箔(Copper Foil)是工業領域廣泛應用的基礎材料,指通過壓延或電解工藝制成厚度小于0.15毫米的薄銅片。根據國際電工委員會标準IEC 60194,銅箔在電子行業中屬于金屬化薄膜材料類别,具有高導電性(導電率≥58 MS/m)和延展性(延伸率3%-45%)。
在漢英詞典定義中,銅箔對應英文術語"copper foil",其核心參數包括厚度(常用單位μm)、表面粗糙度(Rz值≤5μm)和抗拉強度(≥200 MPa)。美國材料與試驗協會ASTM B152規定,電子級銅箔純度需達到99.9%以上,氧含量控制在10ppm以下。
銅箔在現代制造業的應用主要分為兩類:壓延銅箔(Rolled Copper Foil)用于柔性電路闆,電解銅箔(Electrodeposited Copper Foil)用于剛性印刷電路闆。根據IPC-4562标準,锂離子電池用銅箔的厚度公差需控制在±3μm以内,表面光潔度Ra≤0.3μm。
銅箔是一種陰質性電解材料,由銅與其他金屬按一定比例制成,主要用于電子工業和锂離子電池領域。以下是其詳細解釋:
構成與形态
銅箔是沉澱于電路闆基底層上的薄層連續金屬箔(),厚度通常在5μm至105μm之間,純度可達99.7%以上()。常見類型包括含銅量90%的“90箔”和88%的“88箔”()。
核心特性
按工藝分類
按用途與厚度
主要應用
銅箔技術正朝高強度、高伸長率、低輪廓、極薄化方向發展()。例如,極薄銅箔(≤6μm)可提升電池能量密度,低輪廓表面則增強電路穩定性。
如需進一步了解制造工藝(如溶銅造液、生箔工序)或具體行業數據,可參考來源等網頁。
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