
【计】 copper foil
铜箔(Copper Foil)是工业领域广泛应用的基础材料,指通过压延或电解工艺制成厚度小于0.15毫米的薄铜片。根据国际电工委员会标准IEC 60194,铜箔在电子行业中属于金属化薄膜材料类别,具有高导电性(导电率≥58 MS/m)和延展性(延伸率3%-45%)。
在汉英词典定义中,铜箔对应英文术语"copper foil",其核心参数包括厚度(常用单位μm)、表面粗糙度(Rz值≤5μm)和抗拉强度(≥200 MPa)。美国材料与试验协会ASTM B152规定,电子级铜箔纯度需达到99.9%以上,氧含量控制在10ppm以下。
铜箔在现代制造业的应用主要分为两类:压延铜箔(Rolled Copper Foil)用于柔性电路板,电解铜箔(Electrodeposited Copper Foil)用于刚性印刷电路板。根据IPC-4562标准,锂离子电池用铜箔的厚度公差需控制在±3μm以内,表面光洁度Ra≤0.3μm。
铜箔是一种阴质性电解材料,由铜与其他金属按一定比例制成,主要用于电子工业和锂离子电池领域。以下是其详细解释:
构成与形态
铜箔是沉淀于电路板基底层上的薄层连续金属箔(),厚度通常在5μm至105μm之间,纯度可达99.7%以上()。常见类型包括含铜量90%的“90箔”和88%的“88箔”()。
核心特性
按工艺分类
按用途与厚度
主要应用
铜箔技术正朝高强度、高伸长率、低轮廓、极薄化方向发展()。例如,极薄铜箔(≤6μm)可提升电池能量密度,低轮廓表面则增强电路稳定性。
如需进一步了解制造工艺(如溶铜造液、生箔工序)或具体行业数据,可参考来源等网页。
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