
【机】 deposition potential
accumulate; amass; long-standing; product; store up
【医】 product
【医】 potential
沈积电位(Deposition Potential) 是电化学领域的专业术语,指在电解过程中,特定金属离子或物质在电极表面开始发生还原反应并形成固态沉积层所需的最低临界电极电位。其英文对应术语为"Deposition Potential" 或"Electrodeposition Potential"。该电位值通常相对于某一参比电极(如饱和甘汞电极 SCE 或银/氯化银电极 Ag/AgCl)进行测量,单位为伏特(V)。
电化学沉积的起始点
沈积电位标志着金属离子(如 Cu²⁺、Ni²⁺)从电解液中获得电子,还原为金属原子并附着于阴极表面的起始电压。低于此电位时,还原反应速率极低或无沉积发生;达到或超过该电位时,沉积过程显著进行。
热力学与动力学意义
$$ E_{text{dep}} = E^0 + frac{RT}{nF} ln frac{[text{M}^{n+}]}{text{activity}} $$
其中 ( R ) 为气体常数,( T ) 为温度, ( n ) 为电子转移数, ( F ) 为法拉第常数。
工业应用中的关键参数
“沈积电位”是电化学领域的专业术语,通常指金属离子在电极表面发生电沉积时所需的电位。以下是详细解释:
沈积电位(Deposition Potential)是指金属离子从溶液中还原并沉积到电极表面时所需的电位值。该电位需高于平衡电位(即热力学理论值),才能克服能量势垒,促使金属离子脱离溶液形成固态沉积层。
主要用于电镀、电池电极制备、金属腐蚀防护等领域。例如,在电镀工艺中,通过控制沉积电位可实现金属涂层的均匀性和附着力。
如需进一步了解电化学沉积的微观机制或实验方法,可参考电化学专业教材或相关研究文献。
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