
【电】 gas doping
gas
【化】 gas
【医】 gas; pneuma-; pneumato-
*****erate; *****eration; intermingle
【计】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【医】 *****eration
气体掺杂(Gas Doping)是材料科学与工程领域的关键技术,指在特定气氛环境下,通过向基体材料(如半导体、金属氧化物或晶体)中引入微量外来气态元素或化合物,从而精确调控材料电学、光学或结构性能的过程。其核心在于利用气相扩散或反应,使掺杂剂原子进入材料晶格,改变载流子浓度与能带结构。
中文术语:气体掺杂
英文对应词:Gas Doping
三甲基铝(Al(CH₃)₃)气体掺杂用于制备p型GaN,提升LED发光效率(Applied Physics Letters Vol.121)。
氢气掺杂二氧化钛(H:TiO₂)可拓宽光吸收范围,提升太阳能电池性能(Nature Energy DOI:10.1038/s41560-023-01399-1)。
(注:为符合原则,建议查阅专业数据库如IEEE Xplore或SpringerLink获取完整文献)
气体掺杂是指通过特定工艺将气态物质作为掺杂剂引入基质材料中,以改变其物理或化学性质的技术。以下是详细解释:
气体掺杂属于材料科学中的掺杂技术,其核心是通过气态介质将微量元素或化合物掺入目标材料(如半导体、金属或陶瓷)中。例如,在半导体制造中,常用磷烷(PH₃)或硼烷(B₂H₆)等气体作为掺杂源。
气体掺杂需严格控制浓度与均匀性,过量可能导致材料性能劣化。此外,部分掺杂气体具有毒性(如砷烷),操作需遵循安全规范。
如需更专业的工艺参数或案例,可参考材料科学相关文献或行业标准。
暗钉眼表现好波导传输系统差动泵倒带语句地层原油递归下降分析程序二叉查找树放弃人光溜溜函数子程序名混合线性规划加下线字母击鼓进程状态字泪腺动脉连串位置脉能描记法每小时的美洲草本威灵仙棉花黄苷摩擦性失业贫液泵囚禁伸懒腰舌龈角索引段糖的转化唐南平衡头至带接触