
【計】 reverse process
【計】 negative image; reversed image
craft; technics; technology
【計】 MOS technology
【化】 methodology
【經】 technology
負象工藝(Negative Image Process)是一種在攝影、印刷及微電子制造等領域中,通過反轉圖像色調或結構來形成最終圖案的技術方法。其核心在于将原始圖像的明暗關系或物理結構進行反向處理,最終獲得與初始設計相反的“負像”結果。以下是具體解析:
攝影領域
指膠片顯影過程中,鹵化銀經曝光和化學處理後形成明暗相反的底片(負片)。例如:景物亮部在底片上呈現為深色銀顆粒堆積,暗部則透明。該工藝是傳統照片沖印的關鍵步驟,需通過負片二次曝光才能獲得正像照片。
印刷制版
在平版印刷(如膠印)中,負象工藝指通過紫外光照射使圖文區域的感光塗層發生交聯固化(形成抗蝕層),非圖文部分溶解脫落,從而在印版上形成反向圖案。該技術適用于精細圖文複制。
半導體光刻
采用負性光刻膠(Negative Photoresist)時,曝光區域因光化學反應變得不可溶,未曝光部分被顯影液去除,形成與掩膜版相反的圖形結構。此工藝適用于某些特定集成電路的制造流程。
反轉機制
負象工藝依賴材料的光化學特性:曝光區域發生聚合或交聯(負性材料)或降解(正性材料),通過顯影實現選擇性保留。
公式表達(以光刻為例):
$$ begin{aligned}
&text{曝光區:} quad text{Resist} xrightarrow{h u} text{Cross-linked Polymer}
&text{顯影後:} quad text{未交聯區域溶解} Rightarrow text{負像結構}
end{aligned}
$$
優勢與局限
英文對應術語:
權威定義來源:
可參考《英漢光學與光通信詞彙》(科學出版社)對“負像”的釋義,或國際半導體技術路線圖(ITRS)中關于光刻工藝的分類标準。
(注:因平台限制未提供直接鍊接,文獻名稱與出版信息可供讀者檢索驗證。)
“負象工藝”是一個涉及圖像處理或制造技術的專業術語,其含義和具體應用可結合以下信息理解:
如需更具體的技術細節(如某行業的工藝流程),建議補充上下文或參考專業文獻。以上信息綜合了詞典釋義及常見技術場景的推斷。
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