
【计】 reverse process
【计】 negative image; reversed image
craft; technics; technology
【计】 MOS technology
【化】 methodology
【经】 technology
负象工艺(Negative Image Process)是一种在摄影、印刷及微电子制造等领域中,通过反转图像色调或结构来形成最终图案的技术方法。其核心在于将原始图像的明暗关系或物理结构进行反向处理,最终获得与初始设计相反的“负像”结果。以下是具体解析:
摄影领域
指胶片显影过程中,卤化银经曝光和化学处理后形成明暗相反的底片(负片)。例如:景物亮部在底片上呈现为深色银颗粒堆积,暗部则透明。该工艺是传统照片冲印的关键步骤,需通过负片二次曝光才能获得正像照片。
印刷制版
在平版印刷(如胶印)中,负象工艺指通过紫外光照射使图文区域的感光涂层发生交联固化(形成抗蚀层),非图文部分溶解脱落,从而在印版上形成反向图案。该技术适用于精细图文复制。
半导体光刻
采用负性光刻胶(Negative Photoresist)时,曝光区域因光化学反应变得不可溶,未曝光部分被显影液去除,形成与掩膜版相反的图形结构。此工艺适用于某些特定集成电路的制造流程。
反转机制
负象工艺依赖材料的光化学特性:曝光区域发生聚合或交联(负性材料)或降解(正性材料),通过显影实现选择性保留。
公式表达(以光刻为例):
$$ begin{aligned}
&text{曝光区:} quad text{Resist} xrightarrow{h u} text{Cross-linked Polymer}
&text{显影后:} quad text{未交联区域溶解} Rightarrow text{负像结构}
end{aligned}
$$
优势与局限
英文对应术语:
权威定义来源:
可参考《英汉光学与光通信词汇》(科学出版社)对“负像”的释义,或国际半导体技术路线图(ITRS)中关于光刻工艺的分类标准。
(注:因平台限制未提供直接链接,文献名称与出版信息可供读者检索验证。)
“负象工艺”是一个涉及图像处理或制造技术的专业术语,其含义和具体应用可结合以下信息理解:
如需更具体的技术细节(如某行业的工艺流程),建议补充上下文或参考专业文献。以上信息综合了词典释义及常见技术场景的推断。
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