
【電】 floating grid
drift; float; fluctuate
【計】 float
bar
在電子工程領域,"浮動栅"(flloating gate)是一種半導體器件中的關鍵結構,其英文直譯為"floating gate"。該術語特指一種被絕緣層包圍、不與外部電路直接連接的栅極結構,主要用于非易失性存儲器(如閃存和EEPROM)中存儲電荷。
從器件物理層面解釋,浮動栅通過以下機制實現數據存儲:
該技術被廣泛應用于:
根據IEEE标準協會的定義,浮動栅晶體管需滿足以下參數要求: $$ V{th} = V{th0} + frac{Q{fg}}{C{ox}} $$ 其中$V{th0}$為初始阈值電壓,$Q{fg}$為浮動栅電荷量,$C_{ox}$為栅氧化層電容。
參考文獻
IEEE Xplore: Floating Gate Technology in Non-Volatile Memory
ScienceDirect: Semiconductor Memory Devices
SpringerLink: Principles of Flash Memory Operations
IEEE Standard 1005-2022: Terminology for Semiconductor Memory
浮動栅(Floating Gate)是微電子器件中的一種特殊結構,主要應用于非易失性存儲器(如閃存、EEPROM等)。以下從特點、結構和工作原理三方面進行解釋:
浮動栅的關鍵特性是電隔離性,其周圍被二氧化矽等絕緣材料完全包裹,無直接電氣連接。這種設計使存儲在栅上的電荷無法自然洩漏,從而實現數據長期保存(即“非易失性”)。
在器件中,浮動栅通常位于:
典型代表如FAMOS管(Floating Gate Avalanche-Injection MOS),其栅極呈現懸浮狀态。
“栅”在電子學中對應英文grid 或gate,當讀作shān 時特指電子管電極(如栅極)。浮動栅的英文翻譯為floating grid 或floating gate。
該技術是實現U盤、SSD等存儲設備的核心,通過電荷的存儲狀态實現二進制數據的持久化保存。
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