
【电】 floating grid
drift; float; fluctuate
【计】 float
bar
在电子工程领域,"浮动栅"(flloating gate)是一种半导体器件中的关键结构,其英文直译为"floating gate"。该术语特指一种被绝缘层包围、不与外部电路直接连接的栅极结构,主要用于非易失性存储器(如闪存和EEPROM)中存储电荷。
从器件物理层面解释,浮动栅通过以下机制实现数据存储:
该技术被广泛应用于:
根据IEEE标准协会的定义,浮动栅晶体管需满足以下参数要求: $$ V{th} = V{th0} + frac{Q{fg}}{C{ox}} $$ 其中$V{th0}$为初始阈值电压,$Q{fg}$为浮动栅电荷量,$C_{ox}$为栅氧化层电容。
参考文献
IEEE Xplore: Floating Gate Technology in Non-Volatile Memory
ScienceDirect: Semiconductor Memory Devices
SpringerLink: Principles of Flash Memory Operations
IEEE Standard 1005-2022: Terminology for Semiconductor Memory
浮动栅(Floating Gate)是微电子器件中的一种特殊结构,主要应用于非易失性存储器(如闪存、EEPROM等)。以下从特点、结构和工作原理三方面进行解释:
浮动栅的关键特性是电隔离性,其周围被二氧化硅等绝缘材料完全包裹,无直接电气连接。这种设计使存储在栅上的电荷无法自然泄漏,从而实现数据长期保存(即“非易失性”)。
在器件中,浮动栅通常位于:
典型代表如FAMOS管(Floating Gate Avalanche-Injection MOS),其栅极呈现悬浮状态。
“栅”在电子学中对应英文grid 或gate,当读作shān 时特指电子管电极(如栅极)。浮动栅的英文翻译为floating grid 或floating gate。
该技术是实现U盘、SSD等存储设备的核心,通过电荷的存储状态实现二进制数据的持久化保存。
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