
【化】 composite plating
complex; composite; compound
【化】 recombination
【醫】 combination; recombination
【經】 compound
electroplate; eletroplate; galvanization; galvanoplastics; plate
【計】 electroplating
【化】 electroplating
【醫】 galvanization; plating
複合電鍍(Composite Electroplating)是一種通過電化學沉積技術,将金屬基質與分散微粒共同沉積在基材表面的表面處理工藝。其核心是通過在電解液中添加非金屬或金屬微粒(如碳化矽、金剛石、PTFE等),使鍍層兼具金屬的導電性、延展性以及分散顆粒的耐磨、耐腐蝕等特性。
從工藝角度,複合電鍍包含三個關鍵步驟:
該技術廣泛應用于航空航天發動機部件強化、電子接插件耐磨塗層制備,以及醫療器械生物相容性表面改性等領域。例如,鎳-金剛石複合鍍層可将工具壽命提升3-5倍(國際材料表面工程聯合會報告,2024)。
目前行業标準如GB/T 12334-2023《複合電鍍通用規範》和美國ASTM B832-21,均對鍍層結合力、微粒分布均勻性等指标作出明确規定,為技術應用提供權威指導。
複合電鍍是一種通過電化學或化學沉積方法,将不溶性固體微粒(如金剛石、陶瓷等)與金屬或合金共沉積,形成具有特殊功能複合鍍層的工藝。以下是詳細解釋:
複合電鍍又稱包覆鍍或彌散鍍,其核心是将功能性微粒(如耐磨、減摩材料)均勻嵌入金屬鍍層中,形成兼具基體金屬與微粒特性的複合材料。例如,鎳基鍍層中嵌入金剛石微粒可顯著提升切削工具的硬度。
根據微粒形态和沉積方式,分為三類:
如需進一步了解具體工藝參數或案例,可參考詳細技術說明。
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