
【電】 galvanic corrosion
electric current; electrical current; electricity
【計】 I
【化】 current; electric current; electric current (strength)
【醫】 current; electric current; rheo-
【計】 etch
電流刻蝕(Electrochemical Etching)是電子工程與材料科學中的關鍵工藝,指通過可控電流在電解質溶液中定向去除金屬或半導體表面材料的過程。該技術利用陽極氧化反應原理,通過施加電壓使工件表面發生電化學溶解,形成預定微結構。
根據國際電氣電子工程師協會(IEEE)标準,電流刻蝕的核心參數包括電流密度($sigma = I/A$,單位A/m²)、電解液成分和電極間距。該工藝廣泛應用于集成電路制造領域,例如印刷電路闆(PCB)微孔加工和半導體晶圓圖案化。
英國皇家化學學會(RSC)研究顯示,電流刻蝕相較于傳統機械加工可提升精度達納米級别,在MEMS器件制造中可實現0.5-5μm的特征尺寸。典型應用案例包含航空航天領域钛合金部件的表面處理,以及光伏産業中矽基太陽能電池的紋理化加工。
電流刻蝕是一種通過電化學或電物理作用選擇性去除材料表面的工藝,常用于微電子、半導體及精密加工領域。以下是其核心要點:
電流刻蝕通常指利用電流驅動化學反應或物理剝離的刻蝕方式。在電化學刻蝕中,材料作為陽極浸入電解液,通電後發生氧化反應,金屬離子溶解到溶液中,從而實現選擇性去除。例如,鋁在酸性電解液中通電後生成可溶性鋁鹽。
優勢包括非接觸式加工(減少機械應力)、適合硬脆材料;局限主要是設備成本高,且需嚴格控制工藝參數防止過刻蝕。
如需進一步了解具體工藝參數或案例分析,可參考半導體制造相關文獻或行業标準文件。
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