
【电】 galvanic corrosion
electric current; electrical current; electricity
【计】 I
【化】 current; electric current; electric current (strength)
【医】 current; electric current; rheo-
【计】 etch
电流刻蚀(Electrochemical Etching)是电子工程与材料科学中的关键工艺,指通过可控电流在电解质溶液中定向去除金属或半导体表面材料的过程。该技术利用阳极氧化反应原理,通过施加电压使工件表面发生电化学溶解,形成预定微结构。
根据国际电气电子工程师协会(IEEE)标准,电流刻蚀的核心参数包括电流密度($sigma = I/A$,单位A/m²)、电解液成分和电极间距。该工艺广泛应用于集成电路制造领域,例如印刷电路板(PCB)微孔加工和半导体晶圆图案化。
英国皇家化学学会(RSC)研究显示,电流刻蚀相较于传统机械加工可提升精度达纳米级别,在MEMS器件制造中可实现0.5-5μm的特征尺寸。典型应用案例包含航空航天领域钛合金部件的表面处理,以及光伏产业中硅基太阳能电池的纹理化加工。
电流刻蚀是一种通过电化学或电物理作用选择性去除材料表面的工艺,常用于微电子、半导体及精密加工领域。以下是其核心要点:
电流刻蚀通常指利用电流驱动化学反应或物理剥离的刻蚀方式。在电化学刻蚀中,材料作为阳极浸入电解液,通电后发生氧化反应,金属离子溶解到溶液中,从而实现选择性去除。例如,铝在酸性电解液中通电后生成可溶性铝盐。
优势包括非接触式加工(减少机械应力)、适合硬脆材料;局限主要是设备成本高,且需严格控制工艺参数防止过刻蚀。
如需进一步了解具体工艺参数或案例分析,可参考半导体制造相关文献或行业标准文件。
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