離子散射分析英文解釋翻譯、離子散射分析的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 ion scattering analysis (ISA)

分詞翻譯：

離子的英語翻譯：

ion
【化】 ion
【醫】 ion

散射的英語翻譯：

scatter; scattering
【計】 scattering
【化】 scatter; scattering
【醫】 radiation scattered; scatter; scattering

分析的英語翻譯：

analyze; construe; analysis; assay
【計】 parser
【化】 analysis; assaying
【醫】 analysis; anslyze
【經】 analyse

專業解析

離子散射分析（Ion Scattering Analysis）是一種基于帶電粒子與材料表面原子相互作用的分析技術，其核心原理是通過測量入射離子束與樣品碰撞後的能量及角度分布，推算材料表面成分、結構及缺陷信息。該技術廣泛應用于半導體、薄膜材料及表面科學領域，具有非破壞性、高靈敏度等特點。

技術原理

離子散射遵循盧瑟福散射定律，散射離子的能量損失與靶原子質量相關。計算公式為： $$ frac{E}{E_0} = left( frac{costheta + sqrt{left( frac{M_2}{M_1} right) - sintheta}}{1 + frac{M_2}{M_1}} right) $$ 其中$E_0$為入射能量，$E$為散射能量，$M_1$和$M_2$分别為入射離子與靶原子質量，$theta$為散射角。

常用方法

低能離子散射（LEIS）：適用于單原子層分析，靈敏度達10⁻³單層（參考：美國國家标準與技術研究院表面分析手冊）。
中能離子散射（MEIS）：分辨率可達0.1 nm，用于超薄薄膜表征（來源：《表面與界面分析》期刊）。
盧瑟福背散射（RBS）：可定量分析元素濃度深度分布，檢測限約0.1 at%（引自劍橋大學材料系技術文檔）。

應用領域

半導體器件摻雜濃度檢測
金屬氧化物界面反應研究
納米塗層成分分析（案例參考：IBM材料表征白皮書）

優勢與局限

優勢包括可同時獲取成分與結構信息、無需樣品預處理；主要局限為對輕元素靈敏度較低，且需要超高真空環境（數據來源：德國馬普學會固體研究所技術報告）。

網絡擴展解釋

離子散射分析（Ion Scattering Spectroscopy，ISS）是一種通過測量離子與材料表面原子相互作用後的能量變化，來研究材料表面成分和結構的分析技術。以下是其核心要點：

一、基本原理

離子散射分析基于彈性碰撞理論。當低能離子束（如He⁺、Ar⁺等）撞擊材料表面時，與表層原子發生彈性碰撞。散射離子的能量損失與靶原子的質量相關，滿足動量守恒關系： $$ ΔE = E_0 cdot frac{4M_1M_2}{(M_1+M_2)} cosθ $$ 其中，$E_0$為入射能量，$M_1$、$M_2$分别為入射離子和靶原子質量，$θ$為散射角。通過測量散射離子的動能，可反推出表面元素的種類。

二、技術特點

表面敏感：僅探測最外層1-3個原子層（約0.3-1 nm深度），特别適合表面污染物或吸附物分析。
元素鑒别：每個元素對應唯一能量峰，可識别H以外的所有元素。
定量能力：峰強度與元素濃度正相關，結合标樣可實現半定量分析。

三、典型應用

半導體工藝監控：檢測離子注入後雜質分布及擴散行為。
薄膜表征：分析太陽能電池等薄膜的成分梯度及界面反應。
催化研究：追蹤催化劑表面活性位點的元素組成變化。

四、技術分類

低能離子散射（LEIS）：使用0.1-10 keV離子束，側重表面單原子層分析。
中能離子散射（MEIS）：能量範圍100-400 keV，兼具深度剖析能力。

該技術因無需複雜樣品制備，已成為表面科學和材料研發的重要工具，尤其在需要無損檢測的場合優勢顯著。