【電】 ionic bombardment
ion
【化】 ion
【醫】 ion
bounce; bump; dash against; impact; impinge; prang; ram; strike
【電】 bombardment; collision
離子撞擊（Ion Bombardment）指帶電離子在電場或磁場作用下加速後與其他粒子、材料表面或氣體分子發生高速碰撞的物理過程。該現象廣泛存在于等離子體物理、半導體制造及核反應研究領域。
從物理機制分析，離子撞擊包含三個關鍵階段：
根據《牛津材料科學手冊》第7章記載，離子撞擊的能量阈值通常在10-500eV範圍内，超過材料結合能時将産生表面重構現象。美國國家标準技術研究院（NIST）數據庫顯示，氩離子在1kV加速電壓下的平均自由程約為10⁻³托真空環境中的2.5毫米。
該過程在工業應用中的典型實例包括：
"離子撞擊"對應的英文翻譯為"ionic bombardment"或"ion bombardment"。該術語由兩個核心概念構成：
離子（Ion）
指通過失去或獲得電子而帶電的原子或分子，在電場中具有運動特性。其帶電屬性使其能夠參與電磁相互作用。
撞擊（Bombardment）
指高速粒子對材料表面進行沖擊的物理過程。在電學領域特指帶電粒子（如離子）通過加速後與靶材發生的碰撞行為。
物理過程特征：離子在電磁場中被加速至較高動能後，與目标材料發生碰撞，可能引發濺射（材料表面原子被擊出）、晶格損傷或誘發化學反應等效應。
應用領域：常見于半導體制造（如離子注入工藝）、表面處理技術（鍍膜改性）以及核聚變研究中的等離子體控制。例如在離子鍍膜過程中，通過氩離子撞擊靶材使金屬原子濺射到基材表面形成薄膜。
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