
【電】 gallium phosphide semiconductor
磷化镓半導體(Gallium Phosphide Semiconductor)是一種由镓(Ga)和磷(P)元素化合形成的III-V族化合物半導體材料。其化學式為GaP,晶體結構屬于立方晶系的閃鋅礦結構(Zincblende structure),晶格常數為5.45 Å。該材料在室溫下的禁帶寬度為2.26 eV,屬于間接帶隙半導體,但通過摻入氮(N)等元素可轉變為直接帶隙特性,從而增強發光效率。
在電子工程領域,磷化镓半導體的主要特性包括:
該材料的制備主要采用液相外延法(LPE)和金屬有機化學氣相沉積法(MOCVD),其中MOCVD技術可精确控制摻雜濃度和薄膜厚度。根據《半導體器件物理》文獻記載,磷化镓在太陽能電池中的轉換效率可達18-22%,常作為砷化镓太陽能電池的窗口層材料。
最新研究進展顯示,納米線結構的磷化镓可将光緻發光量子效率提升至47%,這一突破由美國化學學會《納米快報》2024年刊載的實驗結果證實。
磷化镓(GaP)是一種重要的Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體材料,由镓(Ga)和磷(P)元素合成。以下是其詳細解釋:
目前尚未實現非摻雜半絕緣磷化镓的制備(),這限制了其在某些高性能器件中的應用。其間接帶隙特性也促使研究人員通過摻雜或異質結設計提升發光效率()。
如需進一步了解具體器件工藝或雜質類型的影響,可參考半導體材料領域專業文獻。
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