
【計】 critical focus
critical
【醫】 crisis
central point; focus
【計】 focus
【化】 focus
【醫】 focal points; focal spot; focus
在光學領域,"臨界焦點"(Critical Focus)指光學系統中光線彙聚達到最佳清晰度的關鍵位置,該概念與透鏡成像原理及衍射極限密切相關。根據中國光學學會《光學名詞》第三版定義,臨界焦點是成像系統中分辨率與像差平衡的極限點,對應物距與像距滿足高斯公式時的焦點位置: $$ frac{1}{f} = frac{1}{u} + frac{1}{v} $$ 其中$f$為焦距,$u$為物距,$v$為像距。當物體處于該公式确定的臨界位置時,系統達到衍射極限分辨率。
國際光學工程學會(SPIE)的《光學工程手冊》進一步指出,臨界焦點在顯微成像和激光加工中具有核心應用價值。在共聚焦顯微鏡中,臨界焦點深度通常控制在λ/2NA²量級(λ為波長,NA為數值孔徑),該參數直接影響三維成像的軸向分辨率。
美國國家标準與技術研究院(NIST)的PHYSICAL MEASUREMENT LABORATORY文件顯示,在半導體光刻領域,193nm浸沒式光刻機的臨界焦點控制精度需達到±30nm,這是實現7nm制程芯片的關鍵技術指标。
以下是“臨界”與“焦點”的詳細解釋:
“臨界”強調狀态轉變的界限條件,而“焦點”既可描述物理/數學中的特殊點,也可比喻核心問題。兩者均為跨學科術語,需結合語境理解。
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