抗蝕膜英文解釋翻譯、抗蝕膜的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【計】 etchant resist; resister

分詞翻譯：

抗的英語翻譯：

contend with; defy; fight; refuse; repel; resist
【醫】 Adv.; contra-; ob-

蝕的英語翻譯：

corrode; erode; lose

膜的英語翻譯：

film; membrane; theca; velamen; velum
【化】 membrane
【醫】 coat; envelope; film; lemma; membranae membranae; membranae membrane
panniculus; theca; thecae; tunic; tunica; velamen; velamenta
velamentum

專業解析

抗蝕膜（Photoresist）是半導體制造與微電子加工中的核心材料，其英文術語為"photoresist"或簡稱為"resist"。該材料通過光化學反應形成保護層，在蝕刻工藝中保護基材表面特定區域免受化學侵蝕。根據國際半導體技術路線圖（ITRS）的定義，抗蝕膜可分為正性（positive）和負性（negative）兩大類型，正性抗蝕膜曝光區域在顯影時溶解，負性抗蝕膜則保留曝光區域。

在應用層面，抗蝕膜主要承擔圖形轉移功能，廣泛運用于集成電路制造、印刷電路闆（PCB）加工和微機電系統（MEMS）領域。美國材料試驗協會（ASTM）标準F127-84指出，抗蝕膜需具備高分辨率、耐蝕刻性和熱穩定性三大特性，其中化學放大抗蝕膜（CAR）憑借其納米級加工能力，已成為先進制程中的主流材料。

技術參數方面，抗蝕膜的關鍵指标包括敏感度（以mJ/cm²為單位）、對比度（Gamma值）和線寬粗糙度（LWR）。根據《半導體制造技術基礎》（Fundamentals of Semiconductor Manufacturing）的論述，現代極紫外（EUV）抗蝕膜已實現<10nm的圖形分辨率，其化學組成通常包含感光劑、樹脂基質和溶劑三大成分。

網絡擴展解釋

抗蝕膜是一種在工業制造（如印制電路闆、集成電路等）中用于保護基材免受化學腐蝕或電鍍影響的特殊塗層材料，其核心作用是通過選擇性遮蔽形成圖案化保護層。以下是詳細解釋：

1.基本定義與原理

抗蝕膜又稱光緻硬化膜，主要由感光性樹脂制成。當特定區域通過曝光（如紫外線、軟X射線等）後，感光材料發生化學反應，形成難溶于水或溶劑的硬化結構。未曝光區域則可通過顯影液去除，從而在基材表面形成保護性圖案。

2.結構與類型

組成：典型抗蝕膜為三明治結構，包括聚酯薄膜（保護層）、感光層（核心功能層，含成膜樹脂、光聚合單體、光引發劑等）和聚乙烯薄膜（支撐層）。
分類：根據溶解性可分為溶劑型和水溶性兩種。溶劑型通過溶解感光材料制備，而水溶性更環保，適用于不同工藝需求。

3.應用領域

印制電路闆（PCB）：在蝕刻工藝中，抗蝕膜覆蓋需保留的銅箔區域，暴露部分被蝕刻液去除，形成電路圖形。
集成電路（IC）：用于光刻技術，通過高精度曝光形成微米級電路圖案，是超大規模集成電路（ULSI）制造的關鍵材料。

4.技術發展

隨着微電子行業對精度的要求提升，抗蝕膜技術正朝着更高分辨率（如軟X射線投影光刻）和環保化（如水溶性材料）方向發展。

若需了解抗蝕膜的具體制備工藝或更多應用場景，可進一步查閱專業文獻或行業标準。