抗蚀膜英文解释翻译、抗蚀膜的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【计】 etchant resist; resister

分词翻译：

抗的英语翻译：

contend with; defy; fight; refuse; repel; resist
【医】 Adv.; contra-; ob-

蚀的英语翻译：

corrode; erode; lose

膜的英语翻译：

film; membrane; theca; velamen; velum
【化】 membrane
【医】 coat; envelope; film; lemma; membranae membranae; membranae membrane
panniculus; theca; thecae; tunic; tunica; velamen; velamenta
velamentum

专业解析

抗蚀膜（Photoresist）是半导体制造与微电子加工中的核心材料，其英文术语为"photoresist"或简称为"resist"。该材料通过光化学反应形成保护层，在蚀刻工艺中保护基材表面特定区域免受化学侵蚀。根据国际半导体技术路线图（ITRS）的定义，抗蚀膜可分为正性（positive）和负性（negative）两大类型，正性抗蚀膜曝光区域在显影时溶解，负性抗蚀膜则保留曝光区域。

在应用层面，抗蚀膜主要承担图形转移功能，广泛运用于集成电路制造、印刷电路板（PCB）加工和微机电系统（MEMS）领域。美国材料试验协会（ASTM）标准F127-84指出，抗蚀膜需具备高分辨率、耐蚀刻性和热稳定性三大特性，其中化学放大抗蚀膜（CAR）凭借其纳米级加工能力，已成为先进制程中的主流材料。

技术参数方面，抗蚀膜的关键指标包括敏感度（以mJ/cm²为单位）、对比度（Gamma值）和线宽粗糙度（LWR）。根据《半导体制造技术基础》（Fundamentals of Semiconductor Manufacturing）的论述，现代极紫外（EUV）抗蚀膜已实现<10nm的图形分辨率，其化学组成通常包含感光剂、树脂基质和溶剂三大成分。

网络扩展解释

抗蚀膜是一种在工业制造（如印制电路板、集成电路等）中用于保护基材免受化学腐蚀或电镀影响的特殊涂层材料，其核心作用是通过选择性遮蔽形成图案化保护层。以下是详细解释：

1.基本定义与原理

抗蚀膜又称光致硬化膜，主要由感光性树脂制成。当特定区域通过曝光（如紫外线、软X射线等）后，感光材料发生化学反应，形成难溶于水或溶剂的硬化结构。未曝光区域则可通过显影液去除，从而在基材表面形成保护性图案。

2.结构与类型

组成：典型抗蚀膜为三明治结构，包括聚酯薄膜（保护层）、感光层（核心功能层，含成膜树脂、光聚合单体、光引发剂等）和聚乙烯薄膜（支撑层）。
分类：根据溶解性可分为溶剂型和水溶性两种。溶剂型通过溶解感光材料制备，而水溶性更环保，适用于不同工艺需求。

3.应用领域

印制电路板（PCB）：在蚀刻工艺中，抗蚀膜覆盖需保留的铜箔区域，暴露部分被蚀刻液去除，形成电路图形。
集成电路（IC）：用于光刻技术，通过高精度曝光形成微米级电路图案，是超大规模集成电路（ULSI）制造的关键材料。

4.技术发展

随着微电子行业对精度的要求提升，抗蚀膜技术正朝着更高分辨率（如软X射线投影光刻）和环保化（如水溶性材料）方向发展。