
【電】 diffused mesa transistor
diffuse; pervasion; proliferate; spread
【計】 scattering
【化】 scatter
【醫】 diffuse; diffusion; extensioin; generalization; generalize; irradiation
high; high-priced; lofty; loud; tall
【醫】 homo-; hyper-; hypsi-; hypso-; per-
broadcasting station; dais; desk; platform; stage; support; table
【醫】 table
transistor
【計】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
擴散高台晶體管(Diffusion Mesa Transistor)是早期半導體器件的一種重要結構類型,其名稱源于兩個核心工藝特征:擴散摻雜技術與台面(mesa)蝕刻成型技術。該器件通過氣相擴散工藝在半導體基底上形成PN結,再通過化學蝕刻形成階梯狀的台面結構以實現電學隔離。
從器件結構分析,該晶體管包含三個關鍵區域:采用擴散法形成的基區(base)、發射區(emitter)以及通過合金法制作的集電區(collector)。台面結構的優勢在于通過物理隔離降低了結電容,這一特性使其在20世紀50-60年代高頻應用場景中占據重要地位(IEEE Xplore,1962年晶體管技術研讨會論文集)。
其工作原理遵循雙極型晶體管的基本特性:發射結正向偏置時載流子注入,集電結反向偏置時載流子收集。擴散工藝的精确控制決定了基區寬度與摻雜濃度,這兩個參數直接影響電流放大系數β值(施敏,《半導體器件物理與工藝》第3章,2020年)。該技術為後續平面工藝晶體管的發展奠定了理論基礎,但因台面結構易受環境污染的缺陷,現已被二氧化矽鈍化技術取代。
“擴散高台晶體管”是一個結合了半導體工藝和結構特征的術語,需要從以下三個層面進行解釋:
晶體管的核心定義
晶體管是一種基于半導體材料(如矽、鍺)的電子器件,通過控制基極、發射極、集電極之間的電流實現信號放大、開關控制等功能。其核心結構包含PN結,利用摻雜工藝形成不同導電區域(如N型和P型半導體)。
“擴散”的工藝含義
擴散是半導體制造中的關鍵工藝,指将特定雜質(如磷、硼)通過高溫擴散注入半導體基片,形成導電區域。例如在雙極型晶體管中,基區常通過擴散工藝實現精确摻雜濃度控制。
“高台”的結構特性
高台(或稱台面結構)指通過刻蝕或沉積工藝形成的立體凸起結構。在晶體管中,這種設計可優化電場分布,降低寄生電容,提高高頻性能。例如某些功率晶體管會采用類似結構增強散熱和耐壓能力。
綜合解釋:擴散高台晶體管可能是采用擴散摻雜工藝制造,并具有立體高台結構的半導體器件。這種結合工藝與結構的設計,常用于高性能場景(如高頻放大、功率控制),以實現更優的載流子遷移效率和熱穩定性。
注:由于搜索結果未直接提及該術語,以上分析基于半導體工藝的常規技術路徑推斷。如需精準定義,建議提供更具體的上下文或技術文檔。
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