
【化】 doped crystal
*****erate; *****eration; intermingle
【計】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【醫】 *****eration
crystal; crystalloid
【化】 crystal
【醫】 Crys.; crystal
摻雜晶體(Doping Crystal)的漢英詞典角度詳解
1. 基礎定義與核心概念
摻雜晶體指在純淨半導體(如矽、鍺)或其他晶體材料中,人為引入特定雜質原子(Dopant Atoms)的過程,以改變其電學、光學或結構性質。
2. 摻雜類型與作用機制
根據雜質原子性質分為兩類:
3. 應用場景與技術價值
摻雜是半導體器件的核心技術,例如:
4. 權威定義參考
國際純粹與應用化學聯合會(IUPAC)将摻雜定義為:
“向本征半導體中加入可控雜質以調節載流子濃度的過程”(來源:IUPAC術語數據庫 Gold Book,條目:doping)。
5. 相關術語擴展
注:因搜索結果限制,本文未提供直接引用鍊接,但所有定義均基于國際公認的物理化學及電子工程學術标準。建議參考IUPAC、IEEE等權威機構出版物獲取詳細技術規範。
摻雜晶體是指在晶體材料中人為引入少量其他元素或離子的過程,通過改變晶體結構或成分,從而調控其物理、化學或電學性質。以下是詳細解釋:
摻雜屬于晶體缺陷中的雜質缺陷,指在母體晶體中摻入異質原子或離子(如半導體中摻入硼或磷),形成微觀尺度的結構變化。摻雜後的晶體可能産生空位、間隙原子或取代原子,但不會導緻整體結構崩塌,因為晶格能承受一定畸變。
取代摻雜
摻雜離子替換母體晶格中的原有離子,需滿足兩個條件:
間隙摻雜
摻雜離子進入晶格間隙位置,要求離子半徑較小(如Li⁺、H⁺等)。
常用制備技術包括:
摻雜濃度通常較低(ppm級别),過高會導緻晶格畸變超出承受極限。分凝系數(k)影響摻雜分布,當k<1時,晶體生長過程中雜質濃度逐漸升高。
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