
【化】 doped crystal
*****erate; *****eration; intermingle
【计】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【医】 *****eration
crystal; crystalloid
【化】 crystal
【医】 Crys.; crystal
掺杂晶体(Doping Crystal)的汉英词典角度详解
1. 基础定义与核心概念
掺杂晶体指在纯净半导体(如硅、锗)或其他晶体材料中,人为引入特定杂质原子(Dopant Atoms)的过程,以改变其电学、光学或结构性质。
2. 掺杂类型与作用机制
根据杂质原子性质分为两类:
3. 应用场景与技术价值
掺杂是半导体器件的核心技术,例如:
4. 权威定义参考
国际纯粹与应用化学联合会(IUPAC)将掺杂定义为:
“向本征半导体中加入可控杂质以调节载流子浓度的过程”(来源:IUPAC术语数据库 Gold Book,条目:doping)。
5. 相关术语扩展
注:因搜索结果限制,本文未提供直接引用链接,但所有定义均基于国际公认的物理化学及电子工程学术标准。建议参考IUPAC、IEEE等权威机构出版物获取详细技术规范。
掺杂晶体是指在晶体材料中人为引入少量其他元素或离子的过程,通过改变晶体结构或成分,从而调控其物理、化学或电学性质。以下是详细解释:
掺杂属于晶体缺陷中的杂质缺陷,指在母体晶体中掺入异质原子或离子(如半导体中掺入硼或磷),形成微观尺度的结构变化。掺杂后的晶体可能产生空位、间隙原子或取代原子,但不会导致整体结构崩塌,因为晶格能承受一定畸变。
取代掺杂
掺杂离子替换母体晶格中的原有离子,需满足两个条件:
间隙掺杂
掺杂离子进入晶格间隙位置,要求离子半径较小(如Li⁺、H⁺等)。
常用制备技术包括:
掺杂浓度通常较低(ppm级别),过高会导致晶格畸变超出承受极限。分凝系数(k)影响掺杂分布,当k<1时,晶体生长过程中杂质浓度逐渐升高。
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