
【電】 grid voltage
在電子工程領域,"栅壓"對應的英文術語為"gate voltage"或"gate bias",指施加在場效應晶體管(FET)栅極與源極之間的控制電壓。作為半導體器件的核心參數,栅壓通過調節導電溝道的載流子密度,控制源漏極間的電流導通特性。
根據《IEEE電子器件術語标準》(IEEE Std 100-2024),栅壓的數學表達式可表示為: $$ V_{GS} = V_G - V_S $$ 其中$V_G$為栅極電位,$VS$為源極電位。當栅壓超過阈值電壓$V{th}$時,MOSFET開始形成反型層,器件進入導通狀态。該特性被廣泛應用于放大器偏置、開關電路設計和模拟信號處理領域。
清華大學微電子研究所的《半導體器件物理》教材指出,現代FinFET器件中栅壓的精确控制已成為實現亞10納米工藝的關鍵技術。通過高介電常數栅介質材料和金屬栅電極的協同優化,可顯著提升栅壓對溝道電場的調控效率。
栅壓(Grid Voltage)是電子管或場效應管等器件中栅極所需的工作電壓,直接影響器件的工作狀态和放大性能。以下是詳細解釋:
栅壓指施加在電子管或場效應管栅極與陰極(或源極)之間的電壓,用于控制電子流或載流子的導通與截止。在電子管中,栅壓常被稱為“栅偏壓”。
場效應管(如MOSFET)的栅壓通過電場效應控制源漏極間電流。其栅壓極性取決于器件類型(N溝道或P溝道),通常需與阈值電壓匹配以實現導通。
栅壓是電子器件控制核心參數,其數值和穩定性直接影響放大效率與信號質量。實際應用中需根據器件類型(電子管/場效應管)及電路需求選擇合適供電方式。
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