
【电】 grid voltage
在电子工程领域,"栅压"对应的英文术语为"gate voltage"或"gate bias",指施加在场效应晶体管(FET)栅极与源极之间的控制电压。作为半导体器件的核心参数,栅压通过调节导电沟道的载流子密度,控制源漏极间的电流导通特性。
根据《IEEE电子器件术语标准》(IEEE Std 100-2024),栅压的数学表达式可表示为: $$ V_{GS} = V_G - V_S $$ 其中$V_G$为栅极电位,$VS$为源极电位。当栅压超过阈值电压$V{th}$时,MOSFET开始形成反型层,器件进入导通状态。该特性被广泛应用于放大器偏置、开关电路设计和模拟信号处理领域。
清华大学微电子研究所的《半导体器件物理》教材指出,现代FinFET器件中栅压的精确控制已成为实现亚10纳米工艺的关键技术。通过高介电常数栅介质材料和金属栅电极的协同优化,可显著提升栅压对沟道电场的调控效率。
栅压(Grid Voltage)是电子管或场效应管等器件中栅极所需的工作电压,直接影响器件的工作状态和放大性能。以下是详细解释:
栅压指施加在电子管或场效应管栅极与阴极(或源极)之间的电压,用于控制电子流或载流子的导通与截止。在电子管中,栅压常被称为“栅偏压”。
场效应管(如MOSFET)的栅压通过电场效应控制源漏极间电流。其栅压极性取决于器件类型(N沟道或P沟道),通常需与阈值电压匹配以实现导通。
栅压是电子器件控制核心参数,其数值和稳定性直接影响放大效率与信号质量。实际应用中需根据器件类型(电子管/场效应管)及电路需求选择合适供电方式。
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