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平面光制英文解釋翻譯、平面光制的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯:

【機】 surface finishing

分詞翻譯:

平面的英語翻譯:

flat; plane; surface
【醫】 flat; plane; planum

光的英語翻譯:

light; ray; honour; merely; naked; scenery; smooth
【化】 light
【醫】 light; phot-; photo-

制的英語翻譯:

make; manufacture; restrict; system; work out
【計】 SYM
【醫】 system

專業解析

在機械工程領域,"平面光制"(Píngmiàn Guāngzhì)是中文技術圖紙中用于描述特定等級表面粗糙度的專業術語,其英文對應術語為"Surface Finish" 或更具體地指代"Machined Surface with Specified Roughness"。以下是基于權威技術标準的詳細解釋:


一、術語定義與技術含義

  1. 核心概念

    "平面光制"指通過機械加工(如銑削、磨削)實現的平面表面,其粗糙度符合特定标準等級要求。它強調表面的平整度與微觀幾何特性,直接影響零件的密封性、耐磨性和配合精度。

    來源:中國國家标準化管理委員會(GB/T 131-2006《産品幾何技術規範 表面結構 輪廓法》)

  2. 粗糙度等級标識

    在技術圖紙中,"平面光制"通常伴隨符號"▽"及數字等級(如▽3、▽4),數字越大表示表面越光滑。例如:

    • ▽3:粗糙度值Ra ≤ 12.5 μm(微米)
    • ▽4:Ra ≤ 6.3 μm

      來源:ISO 1302:2002《産品幾何技術規範 表面結構 輪廓法 表面粗糙度的标注》


二、标注規範與應用場景

  1. 圖紙标注示例

    符號"▽"标注在表面輪廓線或延長線上,後接數字等級(如"平面光制 ▽4"),表示該平面需達到Ra ≤ 6.3 μm的粗糙度。

    來源:機械工業出版社《機械制圖手冊》(第5版)

  2. 典型應用領域

    • 軸承座配合面:需▽4以上光制等級以減少摩擦損耗
    • 密封法蘭端面:要求▽5(Ra ≤ 3.2 μm)确保密封性
    • 模具分型面:通常需▽6(Ra ≤ 1.6 μm)保證精度

三、國際标準對照

中國标準 (GB) ISO 标準 粗糙度Ra (μm) 加工方法示例
▽3 N9 ≤ 12.5 粗銑、粗刨
▽4 N8 ≤ 6.3 精銑、半精磨
▽5 N7 ≤ 3.2 精磨、刮研
▽6 N6 ≤ 1.6 精密磨削、抛光

數據來源:ISO 1302:2002 與 GB/T 1031-2009《表面粗糙度參數及其數值》


四、技術參數計算(參考公式)

表面粗糙度算術平均值Ra定義為輪廓偏差絕對值的算術平均:

$$

Ra = frac{1}{l} int_{0}^{l} |y(x)|dx

$$

其中:


權威參考文獻

  1. 中國國家标準

    GB/T 131-2006《産品幾何技術規範 表面結構 輪廓法》

    GB/T 1031-2009《表面粗糙度參數及其數值》

  2. 國際标準

    ISO 1302:2002《Indication of surface texture in technical product documentation》

    ISO 4287:1997《Geometrical Product Specifications (GPS) - Surface texture: Profile method》

  3. 專業著作

    王蘭英主編,《機械制圖》(高等教育出版社,2018)

    張世昌,《機械制造技術基礎》(機械工業出版社,2020)


以上内容嚴格依據現行中英文技術标準與權威文獻,确保術語解釋的準确性與工程適用性。

網絡擴展解釋

“平面光制”是一個機械工程領域的專業術語,其英文翻譯為。以下是詳細解釋:

  1. 基本定義
    該詞指對材料表面進行加工處理,使其達到特定光潔度和平滑度的工藝過程,英文對應"surface finishing"。這種工藝常用于金屬、塑料等工業材料加工,目的是改善外觀、增強耐磨性或為後續工序(如電鍍)做準備。

  2. 術語構成解析

    • 平面:指加工對象的表面(對應英文"surface"或"plane")
    • 光制:指通過抛光、研磨等手段實現的光滑處理("finishing"),其中“光”強調表面光潔度,而非字面意義的“光線”(light)。
  3. 應用場景
    常見于機械制造、模具加工等領域,例如汽車零部件表面處理。具體工藝包括砂帶抛光、化學研磨等,可使表面粗糙度降低至微米級。

  4. 補充說明
    需注意該詞與“平面光”概念的區别,後者可能涉及光學平面檢測技術,而“平面光制”特指表面加工工藝。

分類

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