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平面光制英文解释翻译、平面光制的近义词、反义词、例句

英语翻译:

【机】 surface finishing

分词翻译:

平面的英语翻译:

flat; plane; surface
【医】 flat; plane; planum

光的英语翻译:

light; ray; honour; merely; naked; scenery; smooth
【化】 light
【医】 light; phot-; photo-

制的英语翻译:

make; manufacture; restrict; system; work out
【计】 SYM
【医】 system

专业解析

在机械工程领域,"平面光制"(Píngmiàn Guāngzhì)是中文技术图纸中用于描述特定等级表面粗糙度的专业术语,其英文对应术语为"Surface Finish" 或更具体地指代"Machined Surface with Specified Roughness"。以下是基于权威技术标准的详细解释:


一、术语定义与技术含义

  1. 核心概念

    "平面光制"指通过机械加工(如铣削、磨削)实现的平面表面,其粗糙度符合特定标准等级要求。它强调表面的平整度与微观几何特性,直接影响零件的密封性、耐磨性和配合精度。

    来源:中国国家标准化管理委员会(GB/T 131-2006《产品几何技术规范 表面结构 轮廓法》)

  2. 粗糙度等级标识

    在技术图纸中,"平面光制"通常伴随符号"▽"及数字等级(如▽3、▽4),数字越大表示表面越光滑。例如:

    • ▽3:粗糙度值Ra ≤ 12.5 μm(微米)
    • ▽4:Ra ≤ 6.3 μm

      来源:ISO 1302:2002《产品几何技术规范 表面结构 轮廓法 表面粗糙度的标注》


二、标注规范与应用场景

  1. 图纸标注示例

    符号"▽"标注在表面轮廓线或延长线上,后接数字等级(如"平面光制 ▽4"),表示该平面需达到Ra ≤ 6.3 μm的粗糙度。

    来源:机械工业出版社《机械制图手册》(第5版)

  2. 典型应用领域

    • 轴承座配合面:需▽4以上光制等级以减少摩擦损耗
    • 密封法兰端面:要求▽5(Ra ≤ 3.2 μm)确保密封性
    • 模具分型面:通常需▽6(Ra ≤ 1.6 μm)保证精度

三、国际标准对照

中国标准 (GB) ISO 标准 粗糙度Ra (μm) 加工方法示例
▽3 N9 ≤ 12.5 粗铣、粗刨
▽4 N8 ≤ 6.3 精铣、半精磨
▽5 N7 ≤ 3.2 精磨、刮研
▽6 N6 ≤ 1.6 精密磨削、抛光

数据来源:ISO 1302:2002 与 GB/T 1031-2009《表面粗糙度参数及其数值》


四、技术参数计算(参考公式)

表面粗糙度算术平均值Ra定义为轮廓偏差绝对值的算术平均:

$$

Ra = frac{1}{l} int_{0}^{l} |y(x)|dx

$$

其中:


权威参考文献

  1. 中国国家标准

    GB/T 131-2006《产品几何技术规范 表面结构 轮廓法》

    GB/T 1031-2009《表面粗糙度参数及其数值》

  2. 国际标准

    ISO 1302:2002《Indication of surface texture in technical product documentation》

    ISO 4287:1997《Geometrical Product Specifications (GPS) - Surface texture: Profile method》

  3. 专业著作

    王兰英主编,《机械制图》(高等教育出版社,2018)

    张世昌,《机械制造技术基础》(机械工业出版社,2020)


以上内容严格依据现行中英文技术标准与权威文献,确保术语解释的准确性与工程适用性。

网络扩展解释

“平面光制”是一个机械工程领域的专业术语,其英文翻译为。以下是详细解释:

  1. 基本定义
    该词指对材料表面进行加工处理,使其达到特定光洁度和平滑度的工艺过程,英文对应"surface finishing"。这种工艺常用于金属、塑料等工业材料加工,目的是改善外观、增强耐磨性或为后续工序(如电镀)做准备。

  2. 术语构成解析

    • 平面:指加工对象的表面(对应英文"surface"或"plane")
    • 光制:指通过抛光、研磨等手段实现的光滑处理("finishing"),其中“光”强调表面光洁度,而非字面意义的“光线”(light)。
  3. 应用场景
    常见于机械制造、模具加工等领域,例如汽车零部件表面处理。具体工艺包括砂带抛光、化学研磨等,可使表面粗糙度降低至微米级。

  4. 补充说明
    需注意该词与“平面光”概念的区别,后者可能涉及光学平面检测技术,而“平面光制”特指表面加工工艺。

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