
【化】 interstitial compound
【計】 gap-filing
【化】 chemical compound
填隙化合物(Interstitial Compound)是一類由金屬原子與非金屬原子通過間隙填充形成的固态化合物。其核心特征是較小的非金屬原子(如氫、硼、碳、氮等)嵌入金屬晶格的間隙位置,形成穩定的晶體結構。該概念最早由德國化學家Eduard Zintl在20世紀30年代提出,現廣泛應用于材料科學與固态化學領域。
填隙化合物可分為兩類:
近年研究聚焦于納米級填隙化合物的設計,如二維氮化硼-金屬複合材料,其比表面積提升可優化催化性能。理論計算表明,釩的氮化物(VN)在锂硫電池中能有效錨定多硫化物。
(注:因未獲取具體網頁鍊接,參考文獻标注為示例編號,實際撰寫需替換為真實文獻來源,例如《Journal of Materials Chemistry》《Advanced Energy Materials》等期刊論文。)
填隙化合物(Interstitial Compound)是一類由外來原子或離子嵌入宿主晶體結構的間隙位置形成的化合物。以下是其核心特點及解釋:
填隙化合物中的“填隙”指外來原子(如氫、碳、氮等)占據宿主金屬或合金晶格的間隙位置,而非取代原有原子。例如,某些儲氫材料(如鎳基材料)通過吸附氫原子形成填隙式結構。
需注意填隙化合物與置換固溶體的區别:前者外來原子位于間隙位置,後者則是直接取代宿主原子位置(需結合權威文獻進一步驗證該描述)。
英文為“interstitial compound”,強調間隙(interstice)的結構特性。
如需更詳細機制或具體制備方法,可參考材料化學領域專著或權威期刊文獻。
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