
【化】 interstitial compound
【计】 gap-filing
【化】 chemical compound
填隙化合物(Interstitial Compound)是一类由金属原子与非金属原子通过间隙填充形成的固态化合物。其核心特征是较小的非金属原子(如氢、硼、碳、氮等)嵌入金属晶格的间隙位置,形成稳定的晶体结构。该概念最早由德国化学家Eduard Zintl在20世纪30年代提出,现广泛应用于材料科学与固态化学领域。
填隙化合物可分为两类:
近年研究聚焦于纳米级填隙化合物的设计,如二维氮化硼-金属复合材料,其比表面积提升可优化催化性能。理论计算表明,钒的氮化物(VN)在锂硫电池中能有效锚定多硫化物。
(注:因未获取具体网页链接,参考文献标注为示例编号,实际撰写需替换为真实文献来源,例如《Journal of Materials Chemistry》《Advanced Energy Materials》等期刊论文。)
填隙化合物(Interstitial Compound)是一类由外来原子或离子嵌入宿主晶体结构的间隙位置形成的化合物。以下是其核心特点及解释:
填隙化合物中的“填隙”指外来原子(如氢、碳、氮等)占据宿主金属或合金晶格的间隙位置,而非取代原有原子。例如,某些储氢材料(如镍基材料)通过吸附氢原子形成填隙式结构。
需注意填隙化合物与置换固溶体的区别:前者外来原子位于间隙位置,后者则是直接取代宿主原子位置(需结合权威文献进一步验证该描述)。
英文为“interstitial compound”,强调间隙(interstice)的结构特性。
如需更详细机制或具体制备方法,可参考材料化学领域专著或权威期刊文献。
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