
【计】 semiconductor doping
semiconductor
【计】 quasi-conductor; SC
【化】 semiconductor
【医】 semiconductor
*****erate; *****eration; intermingle
【计】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【医】 *****eration
半导体掺杂(Semiconductor Doping)是指通过向纯净半导体材料(如硅、锗)中引入特定杂质元素,人为调控其导电性能的技术过程。该操作通过改变半导体晶格结构中的载流子浓度,实现材料从本征半导体向P型或N型半导体的转化。
从技术实现角度,掺杂可分为两类:
掺杂浓度遵循质量作用定律,其电导率变化可通过公式表达: $$ sigma = q(nmu_n + pmu_p) $$ 其中σ为电导率,q为电荷量,n/p分别代表电子和空穴浓度,μ为迁移率。
该技术在现代电子器件中具有基础性作用,包括:
行业标准通常将掺杂浓度划分为轻掺杂(10¹⁵/cm³)、中掺杂(10¹⁷/cm³)和重掺杂(10¹⁹/cm³)三个等级,不同浓度对应器件特性的差异化应用场景。
半导体掺杂是指在本征半导体(如硅、锗)中人为掺入微量特定杂质元素,以改变其导电性能的工艺过程。以下是详细解释:
定义
通过向纯净半导体晶格中添加三价(如硼)或五价(如磷)元素,形成空穴或自由电子,从而显著提升导电能力。掺杂后的半导体称为非本征半导体(或杂质半导体)。
目的
类型 | 掺杂元素 | 载流子来源 | 导电特性 |
---|---|---|---|
P型 | 三价元素(硼、铟) | 形成空穴(正电荷) | 空穴为多数载流子 |
N型 | 五价元素(磷、砷) | 释放自由电子 | 电子为多数载流子 |
如需进一步了解具体掺杂工艺或器件应用,可参考半导体物理教材或专业文献。
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