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半导体掺杂英文解释翻译、半导体掺杂的近义词、反义词、例句

英语翻译:

【计】 semiconductor doping

分词翻译:

半导体的英语翻译:

semiconductor
【计】 quasi-conductor; SC
【化】 semiconductor
【医】 semiconductor

掺杂的英语翻译:

*****erate; *****eration; intermingle
【计】 doping
【化】 *****eration; dope; doping
【医】 *****eration

专业解析

半导体掺杂(Semiconductor Doping)是指通过向纯净半导体材料(如硅、锗)中引入特定杂质元素,人为调控其导电性能的技术过程。该操作通过改变半导体晶格结构中的载流子浓度,实现材料从本征半导体向P型或N型半导体的转化。

从技术实现角度,掺杂可分为两类:

  1. 替代式掺杂(Substitutional Doping):杂质原子取代晶格中的主原子位置,例如磷(P)掺杂硅时,五价磷原子占据四价硅的位置,产生自由电子。
  2. 间隙式掺杂(Interstitial Doping):较小原子(如硼)嵌入晶格间隙,引发空穴导电机制。

掺杂浓度遵循质量作用定律,其电导率变化可通过公式表达: $$ sigma = q(nmu_n + pmu_p) $$ 其中σ为电导率,q为电荷量,n/p分别代表电子和空穴浓度,μ为迁移率。

该技术在现代电子器件中具有基础性作用,包括:

行业标准通常将掺杂浓度划分为轻掺杂(10¹⁵/cm³)、中掺杂(10¹⁷/cm³)和重掺杂(10¹⁹/cm³)三个等级,不同浓度对应器件特性的差异化应用场景。

网络扩展解释

半导体掺杂是指在本征半导体(如硅、锗)中人为掺入微量特定杂质元素,以改变其导电性能的工艺过程。以下是详细解释:

一、定义与目的

  1. 定义
    通过向纯净半导体晶格中添加三价(如硼)或五价(如磷)元素,形成空穴或自由电子,从而显著提升导电能力。掺杂后的半导体称为非本征半导体(或杂质半导体)。

  2. 目的

    • 调控导电类型:形成P型(空穴主导)或N型(电子主导)半导体。
    • 优化电学性能:如增强导电性、控制载流子浓度,为制造二极管、晶体管等器件奠定基础。

二、掺杂类型与原理

类型 掺杂元素 载流子来源 导电特性
P型 三价元素(硼、铟) 形成空穴(正电荷) 空穴为多数载流子
N型 五价元素(磷、砷) 释放自由电子 电子为多数载流子

三、掺杂技术

  1. 热扩散法
    高温下使杂质原子扩散进入半导体表层,适用于早期工艺。
  2. 离子注入法
    通过高能离子束将杂质精确注入特定区域,现代集成电路主要采用此技术。

四、关键影响

如需进一步了解具体掺杂工艺或器件应用,可参考半导体物理教材或专业文献。

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