電感耦合等離子體英文解釋翻譯、電感耦合等離子體的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 inductively coupled plasma

分詞翻譯：

電感的英語翻譯：

inductance
【計】 L
【化】 electrical inductance; inductance
【醫】 inductance

耦合的英語翻譯：

coupling
【計】 coupling

等離子體的英語翻譯：

【化】 plasma

專業解析

電感耦合等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）是一種利用高頻電磁場感應耦合産生的高溫、高能量電離氣體（等離子體）狀态，廣泛應用于元素分析領域。以下是其中英文對照及詳細解釋：

一、中文定義

電感耦合等離子體

指通過高頻電流（通常27-40 MHz）在感應線圈中産生交變電磁場，使流經石英炬管的工作氣體（如氩氣）發生感應耦合放電，形成溫度高達6000–10000 K的穩态等離子體焰炬。其核心是電磁感應原理（法拉第定律），高頻磁場在氣體中感應出渦流，導緻氣體電離并維持自持放電。

二、英文定義

Inductively Coupled Plasma (ICP)

A type of plasma source in which energy is supplied by electric currents produced by electromagnetic induction via a time-varying magnetic field. The ionized gas is sustained in a toroidal shape within a quartz torch, enabling efficient atomization and excitation of analytical samples.

三、工作原理與特性

能量傳遞機制
高頻發生器向銅制感應線圈輸送交流電 → 産生軸向振蕩磁場 → 氣體中的自由電子加速碰撞中性原子 → 雪崩式電離形成等離子體。

公式表征：

$$

abla times mathbf{E} = -frac{partial mathbf{B}}{partial t} $$

其中 $mathbf{E}$ 為感應電場，$mathbf{B}$ 為磁場強度（法拉第電磁感應定律）。

結構組成
- 三層同心石英炬管：外管導入冷卻氣（維持等離子體位形），中管導入輔助氣（點燃等離子體），内管注入氣溶膠樣品。
- 感應線圈：水冷銅線圈，承載高頻電流（功率通常1-2 kW）。
分析優勢
- 高溫環境：可激發難熔元素（如鎢、稀土）
- 低幹擾：惰性氣氛減少化學幹擾
- 寬線性範圍：檢出限達 ppb 級（如 ICP-MS 技術）。

四、典型應用領域

成分分析：ICP-OES（發射光譜）用于環境樣品重金屬檢測
痕量檢測：ICP-MS（質譜聯用）測定生物樣本中超微量元素
材料科學：納米顆粒表征及半導體材料純度控制。

五、中英文術語對照表

中文術語	英文術語
電感耦合	Inductive Coupling
等離子體炬	Plasma Torch
射頻發生器	RF Generator
樣品霧化器	Nebulizer
光譜儀	Spectrometer

權威參考來源：

IUPAC《分析化學術語》詞條 "Inductively Coupled Plasma"（DOI:10.1351/goldbook.I03008）

NIST《等離子體标準技術指南》（SP 260-186）

《Journal of Analytical Atomic Spectrometry》技術綜述（2023, 38, 2147–2156）

網絡擴展解釋

電感耦合等離子體（Inductively Coupled Plasma，ICP）是一種通過電磁感應原理産生的高能量電離氣體狀态，廣泛應用于材料分析和工業加工領域。以下從原理、結構、應用和特點四個方面進行詳細解釋：

1.基本原理

ICP通過高頻磁場（通常為27.12 MHz）的電磁感應産生電流，使惰性氣體（如氩氣）電離形成等離子體。其核心機制是：感應線圈通入高頻電流後，産生交變磁場，氣體中的自由電子在磁場作用下加速并與氣體分子碰撞，最終形成高溫、高密度的電離态氣體。這一過程無需電極直接接觸，避免了污染。

2.結構組成

典型ICP裝置包括：

等離子炬管：三層同心石英管，分别通入冷卻氣、輔助氣和載氣；
高頻發生器：提供高頻電流；
感應線圈：環繞炬管，産生交變磁場；
供氣系統：控制氩氣流量；
冷卻裝置：防止高溫損壞設備。

3.主要應用

分析檢測：作為原子發射光譜（ICP-AES/OES）或質譜（ICP-MS）的激發源，可檢測70多種金屬元素，靈敏度高且支持多元素同時分析；
工業加工：用于半導體刻蝕（如微納加工中的高精度圖形化）；
材料處理：高溫等離子體可用于切割、噴塗或表面改性。

4.核心特點

高溫環境：等離子體溫度可達6000-10000 K，有效分解樣品；
低幹擾：惰性氣體氛圍減少化學幹擾；
穩定性高：環形結構确保長時間穩定運行；
寬適用性：適用于液體、固體和氣溶膠樣品。

總結來看，ICP技術結合了電磁學與等離子體物理，其高效、精準的特性使其成為現代科學和工業中不可或缺的工具。如需進一步了解具體儀器參數或應用案例，可查閱相關行業文獻或設備手冊。