本底雜質英文解釋翻譯、本底雜質的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 background impurity

分詞翻譯：

本底的英語翻譯：

background
【化】 background

雜質的英語翻譯：

impurity
【化】 impurities; impurity
【醫】 impurity

專業解析

在漢英詞典視角下，“本底雜質”（background impurity）指在分析樣品或特定環境中，非目标性存在且難以完全消除的微量幹擾物質。其核心含義包含以下要點：

一、術語定義與構成

1. “本底” (Background)

   指測量系統或樣品固有的基礎狀态或噪聲水平，如儀器基線信號、環境本底輻射等。在分析化學中，代表未加入目标物時的空白信號源 。

2. “雜質” (Impurity)

   指非有意引入的微量成分，可能源自原材料、設備污染或環境遷移（如空氣顆粒、試劑殘留）。

3. 複合含義

   “本底雜質”即系統固有背景中存在的幹擾性污染物，需通過空白實驗扣除其影響以獲取真實數據（例如半導體矽片中非人為摻雜的元素）。

二、典型應用場景

• 材料科學：高純材料（如芯片級矽）中低于ppm級的非可控雜質，直接影響電學性能 。
• 環境監測：大氣/水體檢測時，儀器試劑自身含有的幹擾物（如重金屬本底值）。
• 生物實驗：細胞培養中血清或培養基攜帶的微量内毒素等背景幹擾 。

三、權威參考來源

1. 《英漢化學化工詞彙》（科學出版社）

   定義“background impurity”為“基底雜質；本底雜質”，強調其在痕量分析中的幹擾特性。

   來源鍊接：科學出版社術語庫（需訂閱訪問）

2. IUPAC（國際純粹與應用化學聯合會）

   在《分析術語指南》中指出背景信號需通過空白校正消除（Compendium of Analytical Terminology, 3rd ed.）。

   來源鍊接：IUPAC Gold Book

3. NIST（美國國家标準與技術研究院）

   半導體材料标準中明确本底雜質限值（如NIST SP 960-17）。

   來源鍊接：NIST Materials Database

四、漢英對照關鍵點

注：因“本底雜質”屬專業術語，建議結合具體領域（如半導體、環境科學）查閱行業标準文獻以獲取精準定義。

網絡擴展解釋

“本底雜質”是材料科學、化學或工業生産中的術語，通常指物質中天然存在或生産過程中難以完全去除的基礎性雜質。以下是詳細解釋：

核心含義

1. “本底”概念
   指物質或環境中的基礎背景成分，例如原材料本身含有的微量物質（如礦物中的天然微量元素），或生産環境（如空氣、設備）殘留的固有雜質。

2. “雜質”定義
   雜質是物質中無特定功能甚至可能影響性能的成分，例如：

   • 物理形态：固體顆粒、纖維、液體殘留等。
   • 化學性質：有毒副作用的成分（如重金屬）、影響穩定性的物質（如水分）。

分類與特點

• 來源：
  本底雜質通常來自原材料自身（如礦石中的伴生元素）或生産工藝（如設備磨損殘留、環境粉塵）。
• 特點：
  • 不可避免性：受技術或成本限制，無法完全去除。
  • 低含量性：通常以微量形式存在，但可能累積影響品質。

應用場景舉例

1. 半導體制造：矽晶圓中的本底雜質可能來自原料純度或加工環境，影響導電性能。
2. 藥品生産：藥物活性成分中的微量殘留溶劑、金屬催化劑等屬于本底雜質，需控制在一定限度内。
3. 環境監測：空氣或水體中的本底雜質指自然存在的顆粒物或離子（如PM2.5中的礦物顆粒）。

與普通雜質的區别

• 普通雜質：可能來自人為污染或意外引入（如操作失誤混入異物）。
• 本底雜質：屬于系統性的背景成分，需通過工藝優化降低而非完全消除。

如需進一步了解特定領域的本底雜質标準，建議參考行業規範或學術文獻。

分類

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