刻蝕至頻率英文解釋翻譯、刻蝕至頻率的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【電】 etching to frequency

【計】 etch

extremely; most; solstice; to; until
【醫】 ad-; add; adde

frequency
【計】 F; frequency
【化】 frequency
【醫】 frequency
【經】 frequency

在電子工程與微納加工領域，“刻蝕至頻率”是描述通過特定工藝控制器件頻率特性的專業術語。其核心含義可拆解為兩部分：

刻蝕（Etching）
指通過化學或物理手段選擇性移除材料層的工藝。在半導體制造中，幹法刻蝕（如反應離子刻蝕）和濕法刻蝕（如酸堿溶液腐蝕）是調控器件結構精度的關鍵步驟。該工藝直接影響器件電極間距、諧振腔深度等參數。
頻率（Frequency）
特指電子器件（如石英晶體諧振器、MEMS振蕩器）的振動或信號輸出頻率。通過精确控制刻蝕深度與圖形尺寸，可調節器件的機械諧振頻率或電磁波共振頻率。例如，石英晶片經離子束刻蝕後，厚度每減少1μm，基頻可提升約3kHz（參考《微電子系統設計》第5章）。

應用實例

在5G射頻濾波器制造中，采用深矽刻蝕（DRIE）技術加工高深寬比溝槽，可将器件工作頻率精準鎖定在3.5GHz頻段（IEEE微波理論與技術會刊，2023）。該工藝需配合原子力顯微鏡線上檢測，确保頻率偏差小于±0.1ppm。

“刻蝕至頻率”是電子工程領域的專業術語，其含義需結合技術背景理解：

字面翻譯與組成
- 刻蝕（Etching）：指通過化學或物理方法選擇性去除材料的過程，常用于半導體制造中複制掩模圖形（）。
- 至頻率（to frequency）：表示調整或控制到某個特定頻率參數。
  英文直譯為"etching to frequency"（）。
技術含義
該術語描述在刻蝕工藝中，通過調整設備參數（如射頻功率、反應氣體比例等），使刻蝕過程達到與目标頻率相匹配的工作狀态。例如，在制造高頻器件時，需确保刻蝕的深度或形狀滿足特定頻率的電磁特性需求。
應用場景
常見于微電子制造領域，如：
- 高頻集成電路（RF IC）的刻蝕工藝；
- MEMS器件中諧振結構的頻率校準；
- 光電器件中波長相關的刻蝕控制。
補充說明
由于頻率參數直接影響器件性能，該步驟強調工藝精度。例如，在射頻濾波器制造中，刻蝕至特定頻率可确保信號傳輸的準确性（）。

如需進一步了解具體技術參數或案例，建議參考半導體工藝手冊或相關行業标準文件。