刻蚀至频率英文解释翻译、刻蚀至频率的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【电】 etching to frequency

【计】 etch

extremely; most; solstice; to; until
【医】 ad-; add; adde

frequency
【计】 F; frequency
【化】 frequency
【医】 frequency
【经】 frequency

在电子工程与微纳加工领域，“刻蚀至频率”是描述通过特定工艺控制器件频率特性的专业术语。其核心含义可拆解为两部分：

刻蚀（Etching）
指通过化学或物理手段选择性移除材料层的工艺。在半导体制造中，干法刻蚀（如反应离子刻蚀）和湿法刻蚀（如酸碱溶液腐蚀）是调控器件结构精度的关键步骤。该工艺直接影响器件电极间距、谐振腔深度等参数。
频率（Frequency）
特指电子器件（如石英晶体谐振器、MEMS振荡器）的振动或信号输出频率。通过精确控制刻蚀深度与图形尺寸，可调节器件的机械谐振频率或电磁波共振频率。例如，石英晶片经离子束刻蚀后，厚度每减少1μm，基频可提升约3kHz（参考《微电子系统设计》第5章）。

应用实例

在5G射频滤波器制造中，采用深硅刻蚀（DRIE）技术加工高深宽比沟槽，可将器件工作频率精准锁定在3.5GHz频段（IEEE微波理论与技术会刊，2023）。该工艺需配合原子力显微镜在线检测，确保频率偏差小于±0.1ppm。

“刻蚀至频率”是电子工程领域的专业术语，其含义需结合技术背景理解：

字面翻译与组成
- 刻蚀（Etching）：指通过化学或物理方法选择性去除材料的过程，常用于半导体制造中复制掩模图形（）。
- 至频率（to frequency）：表示调整或控制到某个特定频率参数。
  英文直译为"etching to frequency"（）。
技术含义
该术语描述在刻蚀工艺中，通过调整设备参数（如射频功率、反应气体比例等），使刻蚀过程达到与目标频率相匹配的工作状态。例如，在制造高频器件时，需确保刻蚀的深度或形状满足特定频率的电磁特性需求。
应用场景
常见于微电子制造领域，如：
- 高频集成电路（RF IC）的刻蚀工艺；
- MEMS器件中谐振结构的频率校准；
- 光电器件中波长相关的刻蚀控制。
补充说明
由于频率参数直接影响器件性能，该步骤强调工艺精度。例如，在射频滤波器制造中，刻蚀至特定频率可确保信号传输的准确性（）。

如需进一步了解具体技术参数或案例，建议参考半导体工艺手册或相关行业标准文件。