
【計】 transistor base
transistor
【計】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
base; basic; foundation; key; primary; radix
【化】 group; radical
【醫】 base; basement; group; radical
class; grade; level; o-level; rank; stage; step
【醫】 grade
晶體管基極(Base)是雙極型晶體管(BJT)的三個核心電極之一,其功能是通過輸入微小電流控制集電極-發射極間的主電流。作為半導體器件的控制端,基極的摻雜濃度最低、厚度最薄(通常僅微米級),這種設計使載流子在基區内的複合率降低,從而形成放大效應。
從結構機理分析,基極位于發射極與集電極之間,構成N-P-N或P-N-P夾層結構。當基極-發射極間施加正向偏壓時,電子(NPN型)或空穴(PNP型)從發射極注入基區,受基極寬度遠小于載流子擴散長度的限制,約95%的載流子能穿越基區到達集電極,形成電流放大效應。這種特性被廣泛應用于模拟電路和開關電路設計。
權威文獻指出,典型矽晶體管的基極工作電壓約為0.6-0.7V,電流放大系數(β值)範圍在20-200之間。國際電氣電子工程師學會(IEEE)的測試标準明确規定了基極參數測量方法,包括輸入阻抗(通常為千歐級)和截止頻率(可達GHz範圍)等關鍵指标。
在工程應用中,基極驅動電路設計需遵循電流控制原則。世界半導體協會的技術白皮書強調,過高的基極電流會導緻晶體管飽和,而過低則無法開啟器件,因此需要精确匹配偏置電阻值。例如在共發射極放大電路中,基極電阻的計算公式為: $$ RB = frac{V{CC} - V_{BE}}{IB} $$ 其中$V{CC}$為電源電壓,$V_{BE}$為基極-發射極壓降,$I_B$為基極偏置電流。
晶體管基極是半導體三極管(晶體管)的三個電極之一,其功能與結構特點如下:
基極是由晶體管基區引出的電極,位于發射極和集電極之間。晶體管通常由鍺、矽等半導體材料制成,包含發射結(基極-發射極)和集電結(基極-集電極)兩個PN結。
基極的主要作用是控制電流:
基極的調控特性使其廣泛應用于:
晶體管作為半導體器件的核心元件,具有體積小、能耗低、可靠性高等優勢,而基極是實現其功能的關鍵控制端。
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