
【计】 transistor base
transistor
【计】 MOS transistor; npn
【化】 transistor
base; basic; foundation; key; primary; radix
【化】 group; radical
【医】 base; basement; group; radical
class; grade; level; o-level; rank; stage; step
【医】 grade
晶体管基极(Base)是双极型晶体管(BJT)的三个核心电极之一,其功能是通过输入微小电流控制集电极-发射极间的主电流。作为半导体器件的控制端,基极的掺杂浓度最低、厚度最薄(通常仅微米级),这种设计使载流子在基区内的复合率降低,从而形成放大效应。
从结构机理分析,基极位于发射极与集电极之间,构成N-P-N或P-N-P夹层结构。当基极-发射极间施加正向偏压时,电子(NPN型)或空穴(PNP型)从发射极注入基区,受基极宽度远小于载流子扩散长度的限制,约95%的载流子能穿越基区到达集电极,形成电流放大效应。这种特性被广泛应用于模拟电路和开关电路设计。
权威文献指出,典型硅晶体管的基极工作电压约为0.6-0.7V,电流放大系数(β值)范围在20-200之间。国际电气电子工程师学会(IEEE)的测试标准明确规定了基极参数测量方法,包括输入阻抗(通常为千欧级)和截止频率(可达GHz范围)等关键指标。
在工程应用中,基极驱动电路设计需遵循电流控制原则。世界半导体协会的技术白皮书强调,过高的基极电流会导致晶体管饱和,而过低则无法开启器件,因此需要精确匹配偏置电阻值。例如在共发射极放大电路中,基极电阻的计算公式为: $$ RB = frac{V{CC} - V_{BE}}{IB} $$ 其中$V{CC}$为电源电压,$V_{BE}$为基极-发射极压降,$I_B$为基极偏置电流。
晶体管基极是半导体三极管(晶体管)的三个电极之一,其功能与结构特点如下:
基极是由晶体管基区引出的电极,位于发射极和集电极之间。晶体管通常由锗、硅等半导体材料制成,包含发射结(基极-发射极)和集电结(基极-集电极)两个PN结。
基极的主要作用是控制电流:
基极的调控特性使其广泛应用于:
晶体管作为半导体器件的核心元件,具有体积小、能耗低、可靠性高等优势,而基极是实现其功能的关键控制端。
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