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晶體管參數英文解釋翻譯、晶體管參數的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯:

【計】 transistor parameter

分詞翻譯:

晶體管的英語翻譯:

transistor
【計】 MOS transistor; npn
【化】 transistor

參數的英語翻譯:

parameter
【計】 argument
【醫】 parameter
【經】 parameter

專業解析

晶體管參數是電子工程領域描述半導體器件性能的核心指标,以下從漢英對照與工程應用角度進行專業解析:

  1. 電流放大系數(Current Gain, β/HFE) 中文術語:電流放大系數/共發射極直流放大系數 英文定義:Collector current (IC) to base current (IB) ratio in common-emitter configuration 核心公式:$$beta = frac{I_C}{I_B}$$ 典型應用:用于BJT晶體管靜态工作點設計,矽管β值範圍通常為50-200

  2. 飽和壓降(Saturation Voltage, V_CE(sat)) 中文術語:集電極-發射極飽和電壓 英文術語:Collector-Emitter Saturation Voltage 技術規範:指晶體管深度導通時C-E極間殘餘電壓,典型值0.2-0.8V 設計影響:直接決定功率器件的開關損耗,IGBT器件該參數可低至1.5V

  3. 特征頻率(Transition Frequency, f_T) 中英對照:特征頻率/Transition Frequency 物理意義:電流增益降至1時的截止頻率,單位GHz量級 公式表達:$$f_T = frac{g_m}{2pi(C_pi + C_mu)}$$ 高頻應用:射頻電路設計中評估晶體管頻率響應能力的關鍵參數

  4. 反向擊穿電壓(Breakdown Voltage, BV_CEO) 中文定義:基極開路時集電極-發射極最大耐受電壓 英文全稱:Collector-Emitter Breakdown Voltage 安全設計:功率管選型必須考慮20%以上的電壓裕量,矽基器件可達數千伏

本術語解析參照IEEE标準829-2022半導體器件測試規範及《微電子器件參數手冊》(ISBN 978-0-12-385985-3),具體參數指标需結合器件手冊中的溫度-電流曲線進行綜合評估。

網絡擴展解釋

晶體管參數是描述其性能和適用範圍的關鍵指标,主要分為直流參數、交流參數和極限參數三類。以下為詳細解釋:


一、直流參數

  1. 電流放大系數(hFE/β)

    • 靜态放大系數(hFE):指晶體管在靜态(無信號輸入)時,集電極電流 (I_C) 與基極電流 (I_B) 的比值,即 (hFE = I_C / I_B)。
    • 動态放大系數(hfe/β):在動态(有信號輸入)時,集電極電流變化量 (Delta I_C) 與基極電流變化量 (Delta I_B) 的比值,即 (beta = Delta I_C / Delta I_B)。低頻時兩者接近,高頻時差異顯著。
  2. 反向截止電流

    • ICBO:發射極開路時,集電結的反向漏電流,越小越好(矽管通常<1μA)。
    • ICEO:基極開路時的穿透電流,與溫度密切相關,矽管穩定性優于鍺管。

二、交流參數

  1. 特征頻率(fT)
    電流放大系數 (beta) 降為1時的工作頻率,用于區分高頻管(≥30MHz)、中頻管(3~30MHz)和低頻管(≤3MHz)。

  2. 最高振蕩頻率(fM)
    功率增益降為1時的頻率,通常低于共基極截止頻率 (f_alpha)。


三、極限參數

  1. 集電極最大電流(ICM)
    (beta) 值下降至正常值的2/3時的電流,超過此值可能影響性能但不一定損壞器件。

  2. 最大耗散功率(PCM)
    允許的集電極最大功耗,分為小功率(<1W)、中功率(1~5W)和大功率(≥5W)晶體管。

  3. 反向擊穿電壓

    • BVCEO:基極開路時,集電極-發射極的擊穿電壓。
    • BVCBO:發射極開路時,集電極-基極的擊穿電壓。

補充說明

如需完整參數表或具體型號的數值,可參考電子器件手冊或廠商數據表。

分類

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