
【化】 dislocation; line defects; linear defects
位錯(dislocation)是材料科學中描述晶體内部原子排列缺陷的核心概念,指晶體結構中原子位置發生非完整周期性排列的區域性偏移現象。根據伯格斯矢量(Burgers vector)方向與位錯線的關系,位錯可分為三種基本類型:刃型位錯(edge dislocation)、螺型位錯(screw dislocation)和混合位錯(mixed dislocation)。
在材料力學行為中,位錯的運動是塑性變形的主要機制。例如,金屬材料在受力時,位錯沿滑移面移動導緻晶面滑移,宏觀表現為材料的延展性。透射電子顯微鏡(TEM)等表征技術可直接觀測到位錯線的形态,為研究材料失效機理提供重要依據。
位錯理論在半導體工業中具有特殊意義。晶體生長過程中控制位錯密度直接影響芯片性能,現代外延技術可将矽晶圓的位錯密度降低至$10 text{cm}^{-2}$量級以下,顯著提升電子器件可靠性。相關研究可參考劍橋大學材料系出版的《晶體缺陷與性能》(Crystal Defects and Performance)專著第7章。
位錯是晶體材料中的一種線缺陷,指原子排列的局部不規則性,通常表現為晶體中已滑移區與未滑移區的分界線。以下是詳細解釋:
如需進一步了解位錯的受力分析或增殖機制,可參考相關文獻或教材中的擴展内容。
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