
【化】 dislocation; line defects; linear defects
位错(dislocation)是材料科学中描述晶体内部原子排列缺陷的核心概念,指晶体结构中原子位置发生非完整周期性排列的区域性偏移现象。根据伯格斯矢量(Burgers vector)方向与位错线的关系,位错可分为三种基本类型:刃型位错(edge dislocation)、螺型位错(screw dislocation)和混合位错(mixed dislocation)。
在材料力学行为中,位错的运动是塑性变形的主要机制。例如,金属材料在受力时,位错沿滑移面移动导致晶面滑移,宏观表现为材料的延展性。透射电子显微镜(TEM)等表征技术可直接观测到位错线的形态,为研究材料失效机理提供重要依据。
位错理论在半导体工业中具有特殊意义。晶体生长过程中控制位错密度直接影响芯片性能,现代外延技术可将硅晶圆的位错密度降低至$10 text{cm}^{-2}$量级以下,显著提升电子器件可靠性。相关研究可参考剑桥大学材料系出版的《晶体缺陷与性能》(Crystal Defects and Performance)专著第7章。
位错是晶体材料中的一种线缺陷,指原子排列的局部不规则性,通常表现为晶体中已滑移区与未滑移区的分界线。以下是详细解释:
如需进一步了解位错的受力分析或增殖机制,可参考相关文献或教材中的扩展内容。
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