
【電】 drift mobility
在半導體物理學中,"漂移遷移率"(Drift Mobility)是描述載流子(電子或空穴)在外加電場作用下運動能力的核心參數。其定義為載流子的平均漂移速度(v_d)與施加電場強度(E)的比值,數學表達式為: $$ mu = frac{v_d}{E} $$ 該參數直接反映材料導電性能,遷移率越高表明載流子在電場中移動效率越強。
漂移遷移率受以下主要因素影響:
在器件工程領域,遷移率參數對MOSFET跨導、太陽能電池載流子收集效率等關鍵指标具有決定性作用。國際半導體技術路線圖(ITRS)特别指出,遷移率優化是納米級器件性能提升的核心挑戰之一。
權威參考文獻: 《半導體物理與器件》第4版,Neamen著,McGraw-Hill出版 施敏《半導體器件物理》第三章載流子輸運理論 IEEE Electron Device Letters關于高遷移率溝道材料的研究論文
漂移遷移率是半導體物理學中的重要概念,主要用于描述載流子在電場作用下的遷移能力。以下是詳細解釋:
漂移遷移率(Drift Mobility)指非平衡載流子(如電子或空穴)在電場作用下産生的平均漂移速度與電場強度絕對值的比值。其物理意義在于衡量載流子在外加電場中的運動效率,直接決定半導體的導電性能。
根據實驗測量方法,漂移遷移率的公式為: $$ mu = frac{x}{|E| cdot t} $$ 其中:
更一般化的表達式為: $$ mu = frac{v_d}{|E|} $$ 其中 ( v_d ) 為載流子的平均漂移速度。
漂移遷移率的國際單位為cm²/(V·s),表示每伏特電場下每秒載流子移動的平方厘米距離。
漂移遷移率通過量化載流子對電場的響應能力,為半導體材料的性能評估和器件優化提供了核心依據。其測量與計算在光電子學、集成電路設計等領域具有廣泛應用。
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